東莞市鼎偉靶材有限公司是專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)純屬材料，蒸鍍膜材料以及濺射靶材的技術(shù)企業(yè)應(yīng)用的科技型民營(yíng)股份制工貿(mào)有限公司。公司以青島大學(xué)和青島科技大學(xué)蒸材料專(zhuān)業(yè)為技術(shù)依托，擁有多名中級(jí)專(zhuān)業(yè)技術(shù)人員和專(zhuān)業(yè)化應(yīng)用實(shí)驗(yàn)室，有很強(qiáng)的蒸材料能力。公司先后研的蒸材料、濺射靶材系列產(chǎn)品廣泛應(yīng)用到國(guó)內(nèi)外眾多知名子、太陽(yáng)能企業(yè)當(dāng)中，以較的價(jià)比，成功替代了國(guó)外進(jìn)口產(chǎn)品，頗受用戶(hù)好評(píng)。

鍍膜鉑極Ag靶材

東莞市鼎偉靶材有限公司

聯(lián)系人：肖先生

手機(jī)：18681059472           

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公司主要經(jīng)營(yíng)產(chǎn)品： 

一、真空鍍膜材料 

1．純真空濺射靶材（99.9％——99.999％）

純屬靶材：鋯靶Zr、鉻靶Cr、鈦靶Ti、鋁靶Al、錫靶Sn、釩靶V、銻靶Sb、銦靶、硼靶B、鎢靶W、錳靶Mn、鉍靶Bi、銅靶Cu、石墨靶C、硅靶 Si、鉭靶 Ta、鋅靶Zn、鎂靶Mg、鈮靶Nb、鉬靶Mo、鈷靶Co、鐵靶Fe、鍺靶Ge、鉿靶Hf、鉛靶Pb、鎳靶Ni、銀靶Ag、硒靶Se、鈹靶Be、碲靶Te、不銹鋼靶材S.S等……

多元合靶材： 鈦鋁靶Ti-Al、鈦鋯靶Ti-Zr、鈦硅靶Ti-Si、鈦鎳靶Ti-Ni、鎳鉻靶Ni-Gr、鎳鋁靶Ni-Al、鎳釩靶Ni-V、鎳鐵靶Ni-Fe、鐵鈷靶Fe-Co、鋁硅靶Al-Si、鈦硅靶Ti-Si、鉻硅靶Cr-Si、鋅鋁靶Zn-Al、鈦鋅靶材Ti-Zn、鋁硅銅靶Al-Si-Cu等……

陶瓷濺射靶材：ITO靶、單晶硅靶、多晶硅靶、一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化鈦靶TiO2、氧化鋯靶ZrO2、二硼化鈦靶TiB2、氧化鎂靶MgO、碳化硼靶BC、氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC、三氧化二釔靶Y2O3、五氧化二釩靶V2O5、氧化鋅靶ZnO、硫化鋅靶ZnS、硫化鉬靶MoS、硫化鎢靶WS、氧化鋅鋁靶ZAO、氧化鋁靶Al2O3、鈦酸鍶靶SrTiO3、五氧化二鉭靶Ta2O5、五氧化二鈮靶Nb2O5、氧化鋅鎵靶ZGO、氧化鋅硼靶ZBO、砷化鎵靶GaAs，磷化鎵靶GaP，硒化鋅靶、錳酸鋰靶、鎳鈷酸鋰靶、鉭酸鋰靶，鈮酸鋰靶、等… 

稀土屬靶：鑭靶、鈰靶、鐠靶、釹靶、釤靶、銪靶、釓靶、鋱靶、鏑靶、鈥靶、鉺靶、銩靶、鐿靶、镥靶、釔靶等… 

稀土氧化物靶：氧化鑭靶、氧化鈰靶、氧化鐠靶、氧化釤靶、氧化銪靶、氧化釹靶、氧化釓靶、氧化鋱靶、氧化鏑靶、氧化鈥靶、氧化鉺靶、氧化銩靶、氧化鐿靶、氧化镥靶 

屬膜阻器用Ni-Cr-Si/ Ni-Cr-Mn-Cu濺射靶材：

屬膜阻器用靶材括阻系列（ZYG）、中阻系列（ZYZ）和低阻系列（ZYC）、超低阻系列（ZYCD）。

2．純光學(xué)鍍膜材料（99.99％——99.999％）

氧化物：一氧化硅、二氧化硅、一氧化鈦、二氧化鈦、三氧化二鈦、五氧化三鈦、二氧化鋯、二氧化鉿、二氧化鈰、二鈦酸鐠、三氧化鎢、五氧化二鉭、五氧化二鈮、三氧化二鈧、三氧化二鋁、三氧化二銦、氧化鐿、氧化鋅、氧化鎂、氧化釓、氧化釤、氧化釹、氧化鈣、氧化鐠、氧化鉍、氧化鉻、氧化鎳、氧化銅、氧化鐵、氧化釩等… 

氟化物：氟化鎂、氟化鈣、氟化釹、氟化鑭、氟化鐿、氟化釔、氟化鉺、氟化釤、氟化鏑、氟化鈰、氟化鋇、氟化鍶、氟化鉀、氟化鈉等… 

硫化物：硫化鋅、硫化鉬、硫化鈣、硫化銻、硫化鐵、硫化鈉等…

純鉑：鉑靶、鉑粒、鉑絲、鉑極、鉑片、鉑粉

純度：3N 、3N5、4N、4N5、5N    T18937853784(不是聯(lián)系方式)

規(guī)格：鉑靶（平面圓靶，方靶，旋轉(zhuǎn)靶，臺(tái)階靶均可加工，規(guī)格戶(hù)要求定做）    鉑粒（規(guī)格Φ2*5mm,Φ2*10mm，其他規(guī)格定做）

      鉑絲（Φ0.2mm、Φ0.3mm、Φ0.5mm、Φ1mm其他規(guī)格定做）

      鉑片（根據(jù)戶(hù)要求定做）

          鉑粉（根據(jù)戶(hù)要求定做）

靶材的分類(lèi)方法很多。根據(jù)材料的種類(lèi)，靶材括屬及合靶材、無(wú)機(jī)非屬靶材和復(fù)合靶材等。無(wú)機(jī)非屬靶材又分為氧化物、硅化物、氮化物和氟化物等不同種類(lèi)。根據(jù)不同的幾何形狀，靶材分為長(zhǎng)（正）方體形靶材、圓柱體形靶材和不規(guī)則形狀靶材。此外，靶材還可分為實(shí)心和空心!種類(lèi)型。常規(guī)的長(zhǎng)（正）方體形和圓柱體形磁控濺射靶為實(shí)心的，是以圓環(huán)形永磁體在靶材表面建立環(huán)形磁場(chǎng)，在軸間等距離的環(huán)形表面形成刻蝕區(qū)，因而影響沉積薄膜厚度的均勻，而且靶材的利用率僅為!"30%

【原創(chuàng)內(nèi)容】
用戶(hù)對(duì)背靶的檢查結(jié)果，如我們現(xiàn)有需要維修的地方會(huì)書(shū)面通知戶(hù)并提供維修報(bào)價(jià)。影響靶材中的因素主要是反應(yīng)氣體和濺射氣體的比例，反應(yīng)氣體過(guò)量就會(huì)導(dǎo)致靶中。反應(yīng)是無(wú)氧銅，因?yàn)闊o(wú)氧銅有良好的導(dǎo)和導(dǎo)熱，而且比較容易機(jī)械加工。如果保養(yǎng)適當(dāng)，無(wú)氧銅背靶可以重復(fù)使用10次甚至更多。鉬(Mo)–在某些使用條件比較特殊的況下，如屬鉬作為背靶材料。不銹鋼管(SST)–目前最常使用不銹鋼管作為旋轉(zhuǎn)靶材的背管，因?yàn)椴讳P鋼管有良好的強(qiáng)度和導(dǎo)熱而且非常經(jīng)濟(jì)二、背靶重復(fù)使用大部分背靶可以重復(fù)使用，尤時(shí)建議使用工業(yè)吸塵器進(jìn)行輔助清潔。展屬生產(chǎn)的靶材采用真空密封塑料袋裝,內(nèi)置防潮劑。使用靶材時(shí)請(qǐng)不要用手直接接觸靶材。意：使用靶材時(shí)請(qǐng)配帶干凈而且不會(huì)起絨用玻璃球拋丸法處理有污垢的部件同時(shí)用壓縮空氣qc腔體四周前期濺射剩余物，再用氧化鋁浸漬過(guò)的沙紙輕輕的對(duì)表面進(jìn)行拋光。紗紙拋光后,再用酒精，和去離子水清洗，同用戶(hù)對(duì)背靶的檢查結(jié)果，如我們現(xiàn)有需要維修的地方會(huì)書(shū)面通知戶(hù)并提供維修報(bào)價(jià)。影響靶材中的因素主要是反應(yīng)氣體和濺射氣體的比例，反應(yīng)氣體過(guò)量就會(huì)導(dǎo)致靶中。反應(yīng)用。靶材進(jìn)行預(yù)濺射時(shí)建議慢慢加大濺射功率，陶瓷類(lèi)靶材的功率加大速率建議為1.5W時(shí)/平方厘米。屬類(lèi)靶材的預(yù)濺射速度可以比陶瓷靶材塊，一個(gè)合理的功率加大速率為時(shí)建議使用工業(yè)吸塵器進(jìn)行輔助清潔。展屬生產(chǎn)的靶材采用真空密封塑料袋裝,內(nèi)置防潮劑。使用靶材時(shí)請(qǐng)不要用手直接接觸靶材。意：使用靶材時(shí)請(qǐng)配帶干凈而且不會(huì)起絨