東莞市鼎偉靶材有限公司是專業(yè)生產(chǎn)純屬材料，蒸鍍膜材料以及濺射靶材的技術(shù)企業(yè)應(yīng)用的科技型民營(yíng)股份制工貿(mào)有限公司。公司以青島大學(xué)和青島科技大學(xué)蒸材料專業(yè)為技術(shù)依托，擁有多名中級(jí)專業(yè)技術(shù)人員和專業(yè)化應(yīng)用實(shí)驗(yàn)室，有很強(qiáng)的蒸材料能力。公司先后研的蒸材料、濺射靶材系列產(chǎn)品廣泛應(yīng)用到國(guó)內(nèi)外眾多知名子、太陽(yáng)能企業(yè)當(dāng)中，以較的價(jià)比，成功替代了國(guó)外進(jìn)口產(chǎn)品，頗受用戶好評(píng)。
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東莞市鼎偉靶材有限公司
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公司主要經(jīng)營(yíng)產(chǎn)品：
一、真空鍍膜材料
1．純真空濺射靶材（99.9％——99.999％）
純屬靶材：鋯靶Zr、鉻靶Cr、鈦靶Ti、鋁靶Al、錫靶Sn、釩靶V、銻靶Sb、銦靶、硼靶B、鎢靶W、錳靶Mn、鉍靶Bi、銅靶Cu、石墨靶C、硅靶 Si、鉭靶 Ta、鋅靶Zn、鎂靶Mg、鈮靶Nb、鉬靶Mo、鈷靶Co、鐵靶Fe、鍺靶Ge、鉿靶Hf、鉛靶Pb、鎳靶Ni、銀靶Ag、硒靶Se、鈹靶Be、碲靶Te、不銹鋼靶材S.S等……
多元合靶材： 鈦鋁靶Ti-Al、鈦鋯靶Ti-Zr、鈦硅靶Ti-Si、鈦鎳靶Ti-Ni、鎳鉻靶Ni-Gr、鎳鋁靶Ni-Al、鎳釩靶Ni-V、鎳鐵靶Ni-Fe、鐵鈷靶Fe-Co、鋁硅靶Al-Si、鈦硅靶Ti-Si、鉻硅靶Cr-Si、鋅鋁靶Zn-Al、鈦鋅靶材Ti-Zn、鋁硅銅靶Al-Si-Cu等……
陶瓷濺射靶材：ITO靶、單晶硅靶、多晶硅靶、一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化鈦靶TiO2、氧化鋯靶ZrO2、二硼化鈦靶TiB2、氧化鎂靶MgO、碳化硼靶BC、氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC、三氧化二釔靶Y2O3、五氧化二釩靶V2O5、氧化鋅靶ZnO、硫化鋅靶ZnS、硫化鉬靶MoS、硫化鎢靶WS、氧化鋅鋁靶ZAO、氧化鋁靶Al2O3、鈦酸鍶靶SrTiO3、五氧化二鉭靶Ta2O5、五氧化二鈮靶Nb2O5、氧化鋅鎵靶ZGO、氧化鋅硼靶ZBO、砷化鎵靶GaAs，磷化鎵靶GaP，硒化鋅靶、錳酸鋰靶、鎳鈷酸鋰靶、鉭酸鋰靶，鈮酸鋰靶、等…
稀土屬靶：鑭靶、鈰靶、鐠靶、釹靶、釤靶、銪靶、釓靶、鋱靶、鏑靶、鈥靶、鉺靶、銩靶、鐿靶、镥靶、釔靶等…
稀土氧化物靶：氧化鑭靶、氧化鈰靶、氧化鐠靶、氧化釤靶、氧化銪靶、氧化釹靶、氧化釓靶、氧化鋱靶、氧化鏑靶、氧化鈥靶、氧化鉺靶、氧化銩靶、氧化鐿靶、氧化镥靶
屬膜阻器用Ni-Cr-Si/ Ni-Cr-Mn-Cu濺射靶材：
屬膜阻器用靶材括阻系列（ZYG）、中阻系列（ZYZ）和低阻系列（ZYC）、超低阻系列（ZYCD）。
2．純光學(xué)鍍膜材料（99.99％——99.999％）
氧化物：一氧化硅、二氧化硅、一氧化鈦、二氧化鈦、三氧化二鈦、五氧化三鈦、二氧化鋯、二氧化鉿、二氧化鈰、二鈦酸鐠、三氧化鎢、五氧化二鉭、五氧化二鈮、三氧化二鈧、三氧化二鋁、三氧化二銦、氧化鐿、氧化鋅、氧化鎂、氧化釓、氧化釤、氧化釹、氧化鈣、氧化鐠、氧化鉍、氧化鉻、氧化鎳、氧化銅、氧化鐵、氧化釩等…
氟化物：氟化鎂、氟化鈣、氟化釹、氟化鑭、氟化鐿、氟化釔、氟化鉺、氟化釤、氟化鏑、氟化鈰、氟化鋇、氟化鍶、氟化鉀、氟化鈉等…
硫化物：硫化鋅、硫化鉬、硫化鈣、硫化銻、硫化鐵、硫化鈉等…
品名：離子源、半月型、蚊香型、型燈絲
規(guī)格：0.55、0.65、0.8mm等T18937326747(不是聯(lián)系方式)
根據(jù)戶圖紙的要求，可以加工定制
靶材是子工業(yè)實(shí)現(xiàn)各種功能鍍膜的材料，因此靶材行業(yè)的展主要還是依賴于下游應(yīng)用產(chǎn)業(yè)的進(jìn)步。而近年來(lái)材料、子的展，各種光薄膜、磁薄膜以及子薄膜在這些技術(shù)領(lǐng)域廣泛應(yīng)用。技術(shù)產(chǎn)業(yè)的展，也讓靶材的生產(chǎn)逐漸趨于專業(yè)化。可以說(shuō)，靶材行業(yè)是子產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵撐。
據(jù)《中國(guó)靶材行業(yè)報(bào)告》的統(tǒng)計(jì)，我國(guó)靶材產(chǎn)業(yè)的市場(chǎng)規(guī)模逐年擴(kuò)大，僅濺射靶材在半導(dǎo)體集成路領(lǐng)域的應(yīng)用規(guī)模目前就已經(jīng)達(dá)到十多億元。作為制備和生產(chǎn)功能薄膜的方法之一，濺射法廣泛應(yīng)用于許多領(lǐng)域。它是目前制備屬薄膜最常用的工藝。作為技術(shù)用的靶材是一種全的概念。隨著技術(shù)用材料突飛猛進(jìn)的展，靶材的市場(chǎng)銷售規(guī)模日益擴(kuò)大
【原創(chuàng)內(nèi)容】
直接影響真空度獲得和加成膜失敗的可能。短路或靶材起弧，成膜表面粗糙及化學(xué)雜質(zhì)含量超標(biāo)經(jīng)常是由于不潔凈的濺射室、濺射槍和靶材引起的。為保持鍍膜的成分特，濺射用戶對(duì)背靶的檢查結(jié)果，如我們現(xiàn)有需要維修的地方會(huì)書(shū)面通知戶并提供維修報(bào)價(jià)。影響靶材中的因素主要是反應(yīng)氣體和濺射氣體的比例，反應(yīng)氣體過(guò)量就會(huì)導(dǎo)致靶中。反應(yīng)和背靶避在運(yùn)輸和儲(chǔ)存過(guò)程中生損壞。一、濺射準(zhǔn)備保持真空腔體尤其是濺射系統(tǒng)潔凈是非常重要的。任何由潤(rùn)滑油和灰塵以及前期鍍膜所形成的殘留物會(huì)收集水氣及其他污染物，要確保在靶材和濺射槍冷卻壁之間建立很好的導(dǎo)熱連接。如果用冷卻壁的翹曲程度嚴(yán)重或背板翹曲嚴(yán)重會(huì)造成靶材安裝時(shí)生裂或彎曲，背靶到靶材的導(dǎo)熱能就會(huì)受到很大的影響，導(dǎo)致在濺射過(guò)程中熱量無(wú)法散最終會(huì)造成靶材裂或脫靶為確保足夠的導(dǎo)熱，可以在陰極冷卻壁與靶材之間加墊一層石墨紙。請(qǐng)意一定要仔細(xì)檢查和明確所使用濺射槍冷卻壁的和背靶避在運(yùn)輸和儲(chǔ)存過(guò)程中生損壞。一、濺射準(zhǔn)備保持真空腔體尤其是濺射系統(tǒng)潔凈是非常重要的。任何由潤(rùn)滑油和灰塵以及前期鍍膜所形成的殘留物會(huì)收集水氣及其他污染物，是無(wú)氧銅，因?yàn)闊o(wú)氧銅有良好的導(dǎo)和導(dǎo)熱，而且比較容易機(jī)械加工。如果保養(yǎng)適當(dāng)，無(wú)氧銅背靶可以重復(fù)使用10次甚至更多。鉬(Mo)–在某些使用條件比較特殊的況下，如其是采用屬銦進(jìn)行帖合的比較容易進(jìn)行清潔和重使用。如果是采用其他帖合劑（括環(huán)氧樹(shù)脂）則可能需要采用機(jī)械處理的方式對(duì)背靶表面處理后才能重復(fù)使用。當(dāng)我們收到用戶
