東莞市鼎偉靶材有限公司是專業(yè)生產(chǎn)純屬材料，蒸鍍膜材料以及濺射靶材的技術(shù)企業(yè)應用的科技型民營股份制工貿(mào)有限公司。公司以青島大學和青島科技大學蒸材料專業(yè)為技術(shù)依托，擁有多名中級專業(yè)技術(shù)人員和專業(yè)化應用實驗室，有很強的蒸材料能力。公司先后研的蒸材料、濺射靶材系列產(chǎn)品廣泛應用到國內(nèi)外眾多知名子、太陽能企業(yè)當中，以較的價比，成功替代了國外進口產(chǎn)品，頗受用戶好評。

Ir銥顆粒

東莞市鼎偉靶材有限公司

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公司主要經(jīng)營產(chǎn)品： 

一、真空鍍膜材料 

1．純真空濺射靶材（99.9％——99.999％）

純屬靶材：鋯靶Zr、鉻靶Cr、鈦靶Ti、鋁靶Al、錫靶Sn、釩靶V、銻靶Sb、銦靶、硼靶B、鎢靶W、錳靶Mn、鉍靶Bi、銅靶Cu、石墨靶C、硅靶 Si、鉭靶 Ta、鋅靶Zn、鎂靶Mg、鈮靶Nb、鉬靶Mo、鈷靶Co、鐵靶Fe、鍺靶Ge、鉿靶Hf、鉛靶Pb、鎳靶Ni、銀靶Ag、硒靶Se、鈹靶Be、碲靶Te、不銹鋼靶材S.S等……

多元合靶材： 鈦鋁靶Ti-Al、鈦鋯靶Ti-Zr、鈦硅靶Ti-Si、鈦鎳靶Ti-Ni、鎳鉻靶Ni-Gr、鎳鋁靶Ni-Al、鎳釩靶Ni-V、鎳鐵靶Ni-Fe、鐵鈷靶Fe-Co、鋁硅靶Al-Si、鈦硅靶Ti-Si、鉻硅靶Cr-Si、鋅鋁靶Zn-Al、鈦鋅靶材Ti-Zn、鋁硅銅靶Al-Si-Cu等……

陶瓷濺射靶材：ITO靶、單晶硅靶、多晶硅靶、一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化鈦靶TiO2、氧化鋯靶ZrO2、二硼化鈦靶TiB2、氧化鎂靶MgO、碳化硼靶BC、氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC、三氧化二釔靶Y2O3、五氧化二釩靶V2O5、氧化鋅靶ZnO、硫化鋅靶ZnS、硫化鉬靶MoS、硫化鎢靶WS、氧化鋅鋁靶ZAO、氧化鋁靶Al2O3、鈦酸鍶靶SrTiO3、五氧化二鉭靶Ta2O5、五氧化二鈮靶Nb2O5、氧化鋅鎵靶ZGO、氧化鋅硼靶ZBO、砷化鎵靶GaAs，磷化鎵靶GaP，硒化鋅靶、錳酸鋰靶、鎳鈷酸鋰靶、鉭酸鋰靶，鈮酸鋰靶、等… 

稀土屬靶：鑭靶、鈰靶、鐠靶、釹靶、釤靶、銪靶、釓靶、鋱靶、鏑靶、鈥靶、鉺靶、銩靶、鐿靶、镥靶、釔靶等… 

稀土氧化物靶：氧化鑭靶、氧化鈰靶、氧化鐠靶、氧化釤靶、氧化銪靶、氧化釹靶、氧化釓靶、氧化鋱靶、氧化鏑靶、氧化鈥靶、氧化鉺靶、氧化銩靶、氧化鐿靶、氧化镥靶 

屬膜阻器用Ni-Cr-Si/ Ni-Cr-Mn-Cu濺射靶材：

屬膜阻器用靶材括阻系列（ZYG）、中阻系列（ZYZ）和低阻系列（ZYC）、超低阻系列（ZYCD）。

2．純光學鍍膜材料（99.99％——99.999％）

氧化物：一氧化硅、二氧化硅、一氧化鈦、二氧化鈦、三氧化二鈦、五氧化三鈦、二氧化鋯、二氧化鉿、二氧化鈰、二鈦酸鐠、三氧化鎢、五氧化二鉭、五氧化二鈮、三氧化二鈧、三氧化二鋁、三氧化二銦、氧化鐿、氧化鋅、氧化鎂、氧化釓、氧化釤、氧化釹、氧化鈣、氧化鐠、氧化鉍、氧化鉻、氧化鎳、氧化銅、氧化鐵、氧化釩等… 

氟化物：氟化鎂、氟化鈣、氟化釹、氟化鑭、氟化鐿、氟化釔、氟化鉺、氟化釤、氟化鏑、氟化鈰、氟化鋇、氟化鍶、氟化鉀、氟化鈉等… 

硫化物：硫化鋅、硫化鉬、硫化鈣、硫化銻、硫化鐵、硫化鈉等…

物以稀為貴。釕、銠、鈀、鋨、銥、鉑6個元素在地殼中的含量都非常少。除了鉑在地殼中的含量為億分之五、鈀在地殼中的含量為億分之一外，釕、銠、鋨、銥4個元素在地殼中的含量都只有十億分之一。又由于它們多分散于各種礦石之中，很少形成大的聚集，所以價格昂貴。這6個元素在化學稱作鉑族元素，加已經(jīng)介紹過的銀和，就是我們常說的貴屬。

純Pd鈀靶材廠家：鈀靶、鈀粒、鈀片、鈀粉

純度：3N 、3N5、4N

規(guī)格：鈀靶（平面圓靶，方靶，旋轉(zhuǎn)靶，臺階靶均可加工，規(guī)格戶要求定做）

      鈀粒（不規(guī)則顆粒1-5mm,10*10*1mm片狀，其他規(guī)格定做）

      鈀片（10*10*1mm,根據(jù)戶要求定做）

      鈀粉（根據(jù)戶要求定做）

純Ir銥：銥靶、銥粒、銥片、銥粉

純度：3N 、3N5、4N、4N5

規(guī)格：銥靶（平面圓靶，方靶，旋轉(zhuǎn)靶，臺階靶均可加工，規(guī)格戶要求定做）    銥粒（規(guī)格Φ2*5mm,Φ2*10mm，其他規(guī)格定做）

      銥片（根據(jù)戶要求定做）

          銥粉（根據(jù)戶要求定做）T18937853784(不是聯(lián)系方式)

純鉑：鉑靶、鉑粒、鉑絲、鉑極、鉑片、鉑粉

純度：3N 、3N5、4N、4N5、5N

規(guī)格：鉑靶（平面圓靶，方靶，旋轉(zhuǎn)靶，臺階靶均可加工，規(guī)格戶要求定做）    鉑粒（規(guī)格Φ2*5mm,Φ2*10mm，其他規(guī)格定做）

      鉑絲（Φ0.2mm、Φ0.3mm、Φ0.5mm、Φ1mm其他規(guī)格定做）

      鉑片（根據(jù)戶要求定做）

       鉑粉（根據(jù)戶要求定做）

純Ru釕：釕靶、釕粒、釕塊、釕片、釕粉

純度：3N 、3N5、4N、4N5

規(guī)格：釕靶（平面圓靶，方靶，旋轉(zhuǎn)靶，臺階靶均可加工，規(guī)格戶要求定做）    釕塊（不規(guī)則塊狀，塊狀大可根據(jù)戶要求）

          釕粉（根據(jù)戶要求定做）

純Rh銠：銠靶、銠粒、銠塊、銠粉

純度：3N 、3N5、4N

規(guī)格：銠靶（平面圓靶，方靶，旋轉(zhuǎn)靶，臺階靶均可加工，規(guī)格戶要求定做）    銠塊（不規(guī)則塊狀，塊狀大可根據(jù)戶要求）

          銠粉（根據(jù)戶要求定做）

靶材是子工業(yè)實現(xiàn)各種功能鍍膜的材料，因此靶材行業(yè)的展主要還是依賴于下游應用產(chǎn)業(yè)的進步。而近年來材料、子的展，各種光薄膜、磁薄膜以及子薄膜在這些技術(shù)領域廣泛應用。技術(shù)產(chǎn)業(yè)的展，也讓靶材的生產(chǎn)逐漸趨于專業(yè)化?？梢哉f，靶材行業(yè)是子產(chǎn)業(yè)的關鍵撐。

據(jù)《中國靶材行業(yè)報告》的統(tǒng)計，我國靶材產(chǎn)業(yè)的市場規(guī)模逐年擴大，僅濺射靶材在半導體集成路領域的應用規(guī)模目前就已經(jīng)達到十多億元。作為制備和生產(chǎn)功能薄膜的方法之一，濺射法廣泛應用于許多領域。它是目前制備屬薄膜最常用的工藝。作為技術(shù)用的靶材是一種全的概念。隨著技術(shù)用材料突飛猛進的展，靶材的市場銷售規(guī)模日益擴大

氧化鋯陶瓷        

濺射靶材          

黃靶材    

工業(yè)陶瓷       

靶材廠家      

靶材          

氧化鋯陶瓷棒      

機械陶瓷配件  

子槍燈絲         

【原創(chuàng)內(nèi)容】
用戶對背靶的檢查結(jié)果，如我們現(xiàn)有需要維修的地方會書面通知戶并提供維修報價。影響靶材中的因素主要是反應氣體和濺射氣體的比例，反應氣體過量就會導致靶中。反應用。靶材進行預濺射時建議慢慢加大濺射功率，陶瓷類靶材的功率加大速率建議為1.5W時/平方厘米。屬類靶材的預濺射速度可以比陶瓷靶材塊，一個合理的功率加大速率為屬鉬作為背靶材料。不銹鋼管(SST)–目前最常使用不銹鋼管作為旋轉(zhuǎn)靶材的背管，因為不銹鋼管有良好的強度和導熱而且非常經(jīng)濟二、背靶重復使用大部分背靶可以重復使用，尤屬鉬作為背靶材料。不銹鋼管(SST)–目前最常使用不銹鋼管作為旋轉(zhuǎn)靶材的背管，因為不銹鋼管有良好的強度和導熱而且非常經(jīng)濟二、背靶重復使用大部分背靶可以重復使用，尤的保護手套，{jd1}避用手直接接觸靶材二、靶材清潔靶材清潔的目的是去除靶材表面可能存在的灰塵或污垢。屬靶材可以通過四步清潔，{dy}步用在中浸泡過的無絨軟布清潔；時建議使用工業(yè)吸塵器進行輔助清潔。展屬生產(chǎn)的靶材采用真空密封塑料袋裝,內(nèi)置防潮劑。使用靶材時請不要用手直接接觸靶材。意：使用靶材時請配帶干凈而且不會起絨導致在濺射過程中熱量無法散最終會造成靶材裂或脫靶為確保足夠的導熱，可以在陰極冷卻壁與靶材之間加墊一層石墨紙。請意一定要仔細檢查和明確所使用濺射槍冷卻壁的平整度，同時確保O型密封圈始終在位置。四、短路及密封檢查靶材完成安裝后需要對整個陰極進行短路檢查及密封檢查，建議通過使用阻儀搖表的方式對陰極是否存在短