東莞市鼎偉靶材有限公司是專業(yè)生產(chǎn)純屬材料，蒸鍍膜材料以及濺射靶材的技術(shù)企業(yè)應(yīng)用的科技型民營股份制工貿(mào)有限公司。公司以青島大學(xué)和青島科技大學(xué)蒸材料專業(yè)為技術(shù)依托，擁有多名中級(jí)專業(yè)技術(shù)人員和專業(yè)化應(yīng)用實(shí)驗(yàn)室，有很強(qiáng)的蒸材料能力。公司先后研的蒸材料、濺射靶材系列產(chǎn)品廣泛應(yīng)用到國內(nèi)外眾多知名子、太陽能企業(yè)當(dāng)中，以較的價(jià)比，成功替代了國外進(jìn)口產(chǎn)品，頗受用戶好評(píng)。

焦作Ir銥顆粒

東莞市鼎偉靶材有限公司

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公司主要經(jīng)營產(chǎn)品： 

一、真空鍍膜材料 

1．純真空濺射靶材（99.9％——99.999％）

純屬靶材：鋯靶Zr、鉻靶Cr、鈦靶Ti、鋁靶Al、錫靶Sn、釩靶V、銻靶Sb、銦靶、硼靶B、鎢靶W、錳靶Mn、鉍靶Bi、銅靶Cu、石墨靶C、硅靶 Si、鉭靶 Ta、鋅靶Zn、鎂靶Mg、鈮靶Nb、鉬靶Mo、鈷靶Co、鐵靶Fe、鍺靶Ge、鉿靶Hf、鉛靶Pb、鎳靶Ni、銀靶Ag、硒靶Se、鈹靶Be、碲靶Te、不銹鋼靶材S.S等……

多元合靶材： 鈦鋁靶Ti-Al、鈦鋯靶Ti-Zr、鈦硅靶Ti-Si、鈦鎳靶Ti-Ni、鎳鉻靶Ni-Gr、鎳鋁靶Ni-Al、鎳釩靶Ni-V、鎳鐵靶Ni-Fe、鐵鈷靶Fe-Co、鋁硅靶Al-Si、鈦硅靶Ti-Si、鉻硅靶Cr-Si、鋅鋁靶Zn-Al、鈦鋅靶材Ti-Zn、鋁硅銅靶Al-Si-Cu等……

陶瓷濺射靶材：ITO靶、單晶硅靶、多晶硅靶、一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化鈦靶TiO2、氧化鋯靶ZrO2、二硼化鈦靶TiB2、氧化鎂靶MgO、碳化硼靶BC、氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC、三氧化二釔靶Y2O3、五氧化二釩靶V2O5、氧化鋅靶ZnO、硫化鋅靶ZnS、硫化鉬靶MoS、硫化鎢靶WS、氧化鋅鋁靶ZAO、氧化鋁靶Al2O3、鈦酸鍶靶SrTiO3、五氧化二鉭靶Ta2O5、五氧化二鈮靶Nb2O5、氧化鋅鎵靶ZGO、氧化鋅硼靶ZBO、砷化鎵靶GaAs，磷化鎵靶GaP，硒化鋅靶、錳酸鋰靶、鎳鈷酸鋰靶、鉭酸鋰靶，鈮酸鋰靶、等… 

稀土屬靶：鑭靶、鈰靶、鐠靶、釹靶、釤靶、銪靶、釓靶、鋱靶、鏑靶、鈥靶、鉺靶、銩靶、鐿靶、镥靶、釔靶等… 

稀土氧化物靶：氧化鑭靶、氧化鈰靶、氧化鐠靶、氧化釤靶、氧化銪靶、氧化釹靶、氧化釓靶、氧化鋱靶、氧化鏑靶、氧化鈥靶、氧化鉺靶、氧化銩靶、氧化鐿靶、氧化镥靶 

屬膜阻器用Ni-Cr-Si/ Ni-Cr-Mn-Cu濺射靶材：

屬膜阻器用靶材括阻系列（ZYG）、中阻系列（ZYZ）和低阻系列（ZYC）、超低阻系列（ZYCD）。

2．純光學(xué)鍍膜材料（99.99％——99.999％）

氧化物：一氧化硅、二氧化硅、一氧化鈦、二氧化鈦、三氧化二鈦、五氧化三鈦、二氧化鋯、二氧化鉿、二氧化鈰、二鈦酸鐠、三氧化鎢、五氧化二鉭、五氧化二鈮、三氧化二鈧、三氧化二鋁、三氧化二銦、氧化鐿、氧化鋅、氧化鎂、氧化釓、氧化釤、氧化釹、氧化鈣、氧化鐠、氧化鉍、氧化鉻、氧化鎳、氧化銅、氧化鐵、氧化釩等… 

氟化物：氟化鎂、氟化鈣、氟化釹、氟化鑭、氟化鐿、氟化釔、氟化鉺、氟化釤、氟化鏑、氟化鈰、氟化鋇、氟化鍶、氟化鉀、氟化鈉等… 

硫化物：硫化鋅、硫化鉬、硫化鈣、硫化銻、硫化鐵、硫化鈉等…

物以稀為貴。釕、銠、鈀、鋨、銥、鉑6個(gè)元素在地殼中的含量都非常少。除了鉑在地殼中的含量為億分之五、鈀在地殼中的含量為億分之一外，釕、銠、鋨、銥4個(gè)元素在地殼中的含量都只有十億分之一。又由于它們多分散于各種礦石之中，很少形成大的聚集，所以價(jià)格昂貴。這6個(gè)元素在化學(xué)稱作鉑族元素，加已經(jīng)介紹過的銀和，就是我們常說的貴屬。

純Pd鈀靶材廠家：鈀靶、鈀粒、鈀片、鈀粉

純度：3N 、3N5、4N

規(guī)格：鈀靶（平面圓靶，方靶，旋轉(zhuǎn)靶，臺(tái)階靶均可加工，規(guī)格戶要求定做）

      鈀粒（不規(guī)則顆粒1-5mm,10*10*1mm片狀，其他規(guī)格定做）

      鈀片（10*10*1mm,根據(jù)戶要求定做）

      鈀粉（根據(jù)戶要求定做）

純Ir銥：銥靶、銥粒、銥片、銥粉

純度：3N 、3N5、4N、4N5

規(guī)格：銥靶（平面圓靶，方靶，旋轉(zhuǎn)靶，臺(tái)階靶均可加工，規(guī)格戶要求定做）    銥粒（規(guī)格Φ2*5mm,Φ2*10mm，其他規(guī)格定做）

      銥片（根據(jù)戶要求定做）

          銥粉（根據(jù)戶要求定做）T18937853784(不是聯(lián)系方式)

純鉑：鉑靶、鉑粒、鉑絲、鉑極、鉑片、鉑粉

純度：3N 、3N5、4N、4N5、5N

規(guī)格：鉑靶（平面圓靶，方靶，旋轉(zhuǎn)靶，臺(tái)階靶均可加工，規(guī)格戶要求定做）    鉑粒（規(guī)格Φ2*5mm,Φ2*10mm，其他規(guī)格定做）

      鉑絲（Φ0.2mm、Φ0.3mm、Φ0.5mm、Φ1mm其他規(guī)格定做）

      鉑片（根據(jù)戶要求定做）

       鉑粉（根據(jù)戶要求定做）

純Ru釕：釕靶、釕粒、釕塊、釕片、釕粉

純度：3N 、3N5、4N、4N5

規(guī)格：釕靶（平面圓靶，方靶，旋轉(zhuǎn)靶，臺(tái)階靶均可加工，規(guī)格戶要求定做）    釕塊（不規(guī)則塊狀，塊狀大可根據(jù)戶要求）

          釕粉（根據(jù)戶要求定做）

純Rh銠：銠靶、銠粒、銠塊、銠粉

純度：3N 、3N5、4N

規(guī)格：銠靶（平面圓靶，方靶，旋轉(zhuǎn)靶，臺(tái)階靶均可加工，規(guī)格戶要求定做）    銠塊（不規(guī)則塊狀，塊狀大可根據(jù)戶要求）

          銠粉（根據(jù)戶要求定做）

靶材的分類方法很多。根據(jù)材料的種類，靶材括屬及合靶材、無機(jī)非屬靶材和復(fù)合靶材等。無機(jī)非屬靶材又分為氧化物、硅化物、氮化物和氟化物等不同種類。根據(jù)不同的幾何形狀，靶材分為長（正）方體形靶材、圓柱體形靶材和不規(guī)則形狀靶材。此外，靶材還可分為實(shí)心和空心!種類型。常規(guī)的長（正）方體形和圓柱體形磁控濺射靶為實(shí)心的，是以圓環(huán)形永磁體在靶材表面建立環(huán)形磁場(chǎng)，在軸間等距離的環(huán)形表面形成刻蝕區(qū)，因而影響沉積薄膜厚度的均勻，而且靶材的利用率僅為!"30%

氧化鋯陶瓷        

濺射靶材          

黃靶材    

工業(yè)陶瓷       

靶材廠家      

靶材          

氧化鋯陶瓷棒      

機(jī)械陶瓷配件  

子槍燈絲         

【原創(chuàng)內(nèi)容】
要確保在靶材和濺射槍冷卻壁之間建立很好的導(dǎo)熱連接。如果用冷卻壁的翹曲程度嚴(yán)重或背板翹曲嚴(yán)重會(huì)造成靶材安裝時(shí)生裂或彎曲，背靶到靶材的導(dǎo)熱能就會(huì)受到很大的影響，時(shí)建議使用工業(yè)吸塵器進(jìn)行輔助清潔。展屬生產(chǎn)的靶材采用真空密封塑料袋裝,內(nèi)置防潮劑。使用靶材時(shí)請(qǐng)不要用手直接接觸靶材。意：使用靶材時(shí)請(qǐng)配帶干凈而且不會(huì)起絨直接影響真空度獲得和加成膜失敗的可能。短路或靶材起弧，成膜表面粗糙及化學(xué)雜質(zhì)含量超標(biāo)經(jīng)常是由于不潔凈的濺射室、濺射槍和靶材引起的。為保持鍍膜的成分特，濺射和背靶避在運(yùn)輸和儲(chǔ)存過程中生損壞。一、濺射準(zhǔn)備保持真空腔體尤其是濺射系統(tǒng)潔凈是非常重要的。任何由潤滑油和灰塵以及前期鍍膜所形成的殘留物會(huì)收集水氣及其他污染物，第二步與{dy}步類似用酒精清潔；第三步用去離子水清洗。在用去離子水清洗過后再將靶材放置在烘箱中以100攝氏度烘干30分鐘。氧化物及陶瓷靶材的清洗建潔用“無絨布”進(jìn)行

大部分背靶可以重復(fù)使用，尤其是采用屬銦進(jìn)行帖合的比較容易進(jìn)行清潔和重使用。如果是采用其他帖合劑（括環(huán)氧樹脂）則可能需要采用機(jī)械處理的方式對(duì)背靶表面處理后才