等離子體清洗的機理：

1、什么是等離子體

等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài)，通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)3種狀態(tài)存在，但在一些特殊的情況下可以以第四種狀態(tài)存在，如太陽表面的物質(zhì)和地球大氣中電離層中的物質(zhì)。這類物質(zhì)所處的狀態(tài)稱為等離子體狀態(tài)，又稱為物質(zhì)的第四態(tài)。

等離子體中存在下列物質(zhì):處于高速運動狀態(tài)的電子;活躍狀態(tài)的中性原子、分子、原子團(自由基);離子化的原子、分子;分子解離反應過程中生成的紫外線;未反應的分子、原子等，但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài)。

2、等離子體清洗的機理

由于等離子體中的電子、離子和自由基等活性粒子的存在，其本身很容易與固體表面發(fā)生反應。等離子體清洗主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用"達到去除物體表面污漬的目的。

反應機理來看，等離子體清洗通常包括以下過程:無機氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質(zhì)被吸附在固體表面;被吸附基團與固體表面分子反應生成產(chǎn)物分子;產(chǎn)物分子解析形成氣相;反應殘余物脫離表面。

等離子清洗機 鄭州 科探KT-S2DQX

小型等離子清洗機具有成本低廉、操作靈活的特點， 與動輒十幾萬美元的大型產(chǎn)品相比小型等離子清潔小型機具有以下優(yōu)點:

1、可以更靈活地操作，簡便地改變處理 氣體的種類和處理程序。

2、不會對人員的身體造成傷害。

3、其成本對于等離子處理方法來說是微不足道的。

該清洗機內(nèi)置高純石英倉體，容積為2升。采用了新型的外觀結(jié)構(gòu)設計和固態(tài)電源技術(shù)，使其有效容積增大，不同真空 氣體環(huán)境下容易匹配，且控制頻率穩(wěn)定。真空倉門有觀察窗，可直觀物體的處理過程，其射頻電源與控制都組裝在一個機箱內(nèi)，即減少了空間的占用，更便于操作和放置，同時與大型清洗機相比較，從檢測功能與控制功能的設置上均可一個面板上操作，特別適用科學實驗 樣品清洗 和教學。

主要應用于半導體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼電器等行業(yè)的精密清洗，塑料、橡膠、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命科學實驗等