生產(chǎn)力促進局智能制造及材料科技部高級顧問盧偉賢博士指出，受靜電影響，一般硅膠容易沾塵，廠商若以傳統(tǒng)化學涂層方法，防塵及潤滑涂層功效只可維持數(shù)個月。

嶄新的方法是以等離子能量將硅膠表面的氧氣原子改性，將負極硅膠表面改為正極，過程中使用無害的有機化學品，不會排出污染廢料，因此是清潔生產(chǎn)工藝。其較低靜電量特質(zhì)，防塵效用高，適用于gd產(chǎn)品，如眼鏡框，手表表帶等，亦可用于醫(yī)療設備及運動產(chǎn)品，令這些產(chǎn)品有更佳表現(xiàn)。等離子體表面處理技術適用于纖維、聚合物和塑膠等物料，亦可應用于清洗、活化及蝕刻金屬、塑膠與陶瓷材料的表面部份，改變材料表面的物理特征。高能量脈沖式等離子磁控濺射技術，能超越傳統(tǒng)的磁控濺射方法，制作出高質(zhì)量多于3μm的厚離子鍍層。

由于高能量脈沖方式有利增加離子的密度，不但加強鍍層與底材之間的接合力，亦可減低表面粗糙度，在功能性部件上可進一步增強耐磨性能及減少替換次數(shù)。在陰極有大量氫氣析出，使陰極表面附近的pH值迅速提高。當pH值>4后，水合三價鉻會發(fā)生羥橋化，聚合為長鏈的聚合物膠體沉淀物，阻礙三價鉻的還原，電流效率降至{zd1}值。氨基乙酸可防止Cr(OH)3沉淀的生成，穩(wěn)定鍍液的pH值。氨基乙酸的另一作用是掩蔽有害金屬離子的干擾。許多羧酸、氨基酸、羥基酸都是雜質(zhì)離子的優(yōu)良配位體，尤其是EDTA，使雜質(zhì)離子的析出電位大幅負移，從而不再干擾鉻的析出。廣泛用來作為金屬化孔電鍍和印制插頭接觸片上的襯底鍍層。所獲得的淀積層的內(nèi)應力低、硬度高，且具有極為優(yōu)越的延展性。將一種去應力劑加入鍍液中，所得到的鍍層將稍有一點應力。有多種不同配方的氨基磺酸鹽鍍液，典型的氨基磺酸鎳鍍液配方如下表。由于鍍層的應力低，所以獲得廣泛的應用，但氨基磺酸鎳穩(wěn)定性差，其成本相對高。