東莞市鼎偉靶材有限公司是專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)純屬材料，蒸鍍膜材料以及濺射靶材的技術(shù)企業(yè)應(yīng)用的科技型民營(yíng)股份制工貿(mào)有限公司。公司以青島大學(xué)和青島科技大學(xué)蒸材料專(zhuān)業(yè)為技術(shù)依托，擁有多名中級(jí)專(zhuān)業(yè)技術(shù)人員和專(zhuān)業(yè)化應(yīng)用實(shí)驗(yàn)室，有很強(qiáng)的蒸材料能力。公司先后研的蒸材料、濺射靶材系列產(chǎn)品廣泛應(yīng)用到國(guó)內(nèi)外眾多知名子、太陽(yáng)能企業(yè)當(dāng)中，以較的價(jià)比，成功替代了國(guó)外進(jìn)口產(chǎn)品，頗受用戶(hù)好評(píng)。
磁控濺射離子源燈絲
東莞市鼎偉靶材有限公司
聯(lián)系人：肖先生
手機(jī)：18681059472
話(huà)：0769-88039551
網(wǎng)站：
郵箱：
地址：東莞市南城區(qū)民間融大廈
公司主要經(jīng)營(yíng)產(chǎn)品：
一、真空鍍膜材料
1．純真空濺射靶材（99.9％——99.999％）
純屬靶材：鋯靶Zr、鉻靶Cr、鈦靶Ti、鋁靶Al、錫靶Sn、釩靶V、銻靶Sb、銦靶、硼靶B、鎢靶W、錳靶Mn、鉍靶Bi、銅靶Cu、石墨靶C、硅靶 Si、鉭靶 Ta、鋅靶Zn、鎂靶Mg、鈮靶Nb、鉬靶Mo、鈷靶Co、鐵靶Fe、鍺靶Ge、鉿靶Hf、鉛靶Pb、鎳靶Ni、銀靶Ag、硒靶Se、鈹靶Be、碲靶Te、不銹鋼靶材S.S等……
多元合靶材： 鈦鋁靶Ti-Al、鈦鋯靶Ti-Zr、鈦硅靶Ti-Si、鈦鎳靶Ti-Ni、鎳鉻靶Ni-Gr、鎳鋁靶Ni-Al、鎳釩靶Ni-V、鎳鐵靶Ni-Fe、鐵鈷靶Fe-Co、鋁硅靶Al-Si、鈦硅靶Ti-Si、鉻硅靶Cr-Si、鋅鋁靶Zn-Al、鈦鋅靶材Ti-Zn、鋁硅銅靶Al-Si-Cu等……
陶瓷濺射靶材：ITO靶、單晶硅靶、多晶硅靶、一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化鈦靶TiO2、氧化鋯靶ZrO2、二硼化鈦靶TiB2、氧化鎂靶MgO、碳化硼靶BC、氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC、三氧化二釔靶Y2O3、五氧化二釩靶V2O5、氧化鋅靶ZnO、硫化鋅靶ZnS、硫化鉬靶MoS、硫化鎢靶WS、氧化鋅鋁靶ZAO、氧化鋁靶Al2O3、鈦酸鍶靶SrTiO3、五氧化二鉭靶Ta2O5、五氧化二鈮靶Nb2O5、氧化鋅鎵靶ZGO、氧化鋅硼靶ZBO、砷化鎵靶GaAs，磷化鎵靶GaP，硒化鋅靶、錳酸鋰靶、鎳鈷酸鋰靶、鉭酸鋰靶，鈮酸鋰靶、等…
稀土屬靶：鑭靶、鈰靶、鐠靶、釹靶、釤靶、銪靶、釓靶、鋱靶、鏑靶、鈥靶、鉺靶、銩靶、鐿靶、镥靶、釔靶等…
稀土氧化物靶：氧化鑭靶、氧化鈰靶、氧化鐠靶、氧化釤靶、氧化銪靶、T18937326747(不是聯(lián)系方式)氧化釹靶、氧化釓靶、氧化鋱靶、氧化鏑靶、氧化鈥靶、氧化鉺靶、氧化銩靶、氧化鐿靶、氧化镥靶
屬膜阻器用Ni-Cr-Si/ Ni-Cr-Mn-Cu濺射靶材：
屬膜阻器用靶材括阻系列（ZYG）、中阻系列（ZYZ）和低阻系列（ZYC）、超低阻系列（ZYCD）。
2．純光學(xué)鍍膜材料（99.99％——99.999％）
氧化物：一氧化硅、二氧化硅、一氧化鈦、二氧化鈦、三氧化二鈦、五氧化三鈦、二氧化鋯、二氧化鉿、二氧化鈰、二鈦酸鐠、三氧化鎢、五氧化二鉭、五氧化二鈮、三氧化二鈧、三氧化二鋁、三氧化二銦、氧化鐿、氧化鋅、氧化鎂、氧化釓、氧化釤、氧化釹、氧化鈣、氧化鐠、氧化鉍、氧化鉻、氧化鎳、氧化銅、氧化鐵、氧化釩等…
氟化物：氟化鎂、氟化鈣、氟化釹、氟化鑭、氟化鐿、氟化釔、氟化鉺、氟化釤、氟化鏑、氟化鈰、氟化鋇、氟化鍶、氟化鉀、氟化鈉等…
硫化物：硫化鋅、硫化鉬、硫化鈣、硫化銻、硫化鐵、硫化鈉等…
貴屬：、銀、鉑、釕、銠、鈀、鋨、銥
純：靶、粒、絲、極、片、粉
純度：3N 、3N5、4N、4N5、5N
規(guī)格：靶（平面圓靶，方靶，旋轉(zhuǎn)靶，臺(tái)階靶均可加工，規(guī)格戶(hù)要求定做） 粒（規(guī)格Φ2*5mm,Φ2*10mm，其他規(guī)格定做）
絲（Φ0.2mm、Φ0.3mm、Φ0.5mm、Φ1mm其他規(guī)格定做）
片（根據(jù)戶(hù)要求定做）
粉（根據(jù)戶(hù)要求定做）
進(jìn)入20紀(jì)90年代以來(lái)，隨著技術(shù)和材料，特別是子行業(yè)的器件和材料的飛速展，濺射靶材的市場(chǎng)規(guī)模日益擴(kuò)大。!1990"年靶材市場(chǎng)銷(xiāo)售額為336-397億日元，年長(zhǎng)率達(dá)到 20%；!1991!年約為377-443億日元， 年長(zhǎng)率為10% 。!1995年僅日本的靶材市場(chǎng)就已達(dá)到500億日元［G］ 。據(jù)不wq統(tǒng)計(jì)，!1999年靶材市場(chǎng)的 年銷(xiāo)售額近!10億美元，其中日本的市場(chǎng)份額超過(guò)市場(chǎng)的一半，美國(guó)的市場(chǎng)份額約占的三分之一，中國(guó)大陸的年銷(xiāo)售額約E""300-500"萬(wàn)美元，臺(tái)灣地區(qū)的年銷(xiāo)售額約2500""萬(wàn)美元。由于子薄膜、光學(xué)薄膜、光薄膜、磁薄膜和超導(dǎo)薄膜等在技術(shù)和工業(yè)的大規(guī)模應(yīng)用，靶材已逐漸展成為一個(gè)專(zhuān)業(yè)化產(chǎn)業(yè)。隨著技術(shù)的不斷展，的靶材市場(chǎng)還將進(jìn)一步擴(kuò)大。
【原創(chuàng)內(nèi)容】
用。靶材進(jìn)行預(yù)濺射時(shí)建議慢慢加大濺射功率，陶瓷類(lèi)靶材的功率加大速率建議為1.5W時(shí)/平方厘米。屬類(lèi)靶材的預(yù)濺射速度可以比陶瓷靶材塊，一個(gè)合理的功率加大速率為化合物覆蓋面積加的速率得不到抑制，濺射溝道將進(jìn)一步被化合物覆蓋，當(dāng)濺射靶被化合物全部覆蓋的時(shí)候，靶wq中一、背靶材料無(wú)氧銅(OFC)–目前最常使用的作背靶的材料
大部分背靶可以重復(fù)使用，尤其是采用屬銦進(jìn)行帖合的比較容易進(jìn)行清潔和重使用。如果是采用其他帖合劑（括環(huán)氧樹(shù)脂）則可能需要采用機(jī)械處理的方式對(duì)背靶表面處理后才
其是采用屬銦進(jìn)行帖合的比較容易進(jìn)行清潔和重使用。如果是采用其他帖合劑（括環(huán)氧樹(shù)脂）則可能需要采用機(jī)械處理的方式對(duì)背靶表面處理后才能重復(fù)使用。當(dāng)我們收到用戶(hù)
大部分背靶可以重復(fù)使用，尤其是采用屬銦進(jìn)行帖合的比較容易進(jìn)行清潔和重使用。如果是采用其他帖合劑（括環(huán)氧樹(shù)脂）則可能需要采用機(jī)械處理的方式對(duì)背靶表面處理后才
和背靶避在運(yùn)輸和儲(chǔ)存過(guò)程中生損壞。一、濺射準(zhǔn)備保持真空腔體尤其是濺射系統(tǒng)潔凈是非常重要的。任何由潤(rùn)滑油和灰塵以及前期鍍膜所形成的殘留物會(huì)收集水氣及其他污染物，第二步與{dy}步類(lèi)似用酒精清潔；第三步用去離子水清洗。在用去離子水清洗過(guò)后再將靶材放置在烘箱中以100攝氏度烘干30分鐘。氧化物及陶瓷靶材的清洗建潔用“無(wú)絨布”進(jìn)行用戶(hù)對(duì)背靶的檢查結(jié)果，如我們現(xiàn)有需要維修的地方會(huì)書(shū)面通知戶(hù)并提供維修報(bào)價(jià)。影響靶材中的因素主要是反應(yīng)氣體和濺射氣體的比例，反應(yīng)氣體過(guò)量就會(huì)導(dǎo)致靶中。反應(yīng)
