東莞市鼎偉靶材有限公司是專業(yè)生產(chǎn)純屬材料，蒸鍍膜材料以及濺射靶材的技術(shù)企業(yè)應(yīng)用的科技型民營股份制工貿(mào)有限公司。公司以青島大學(xué)和青島科技大學(xué)蒸材料專業(yè)為技術(shù)依托，擁有多名中級專業(yè)技術(shù)人員和專業(yè)化應(yīng)用實驗室，有很強的蒸材料能力。公司先后研的蒸材料、濺射靶材系列產(chǎn)品廣泛應(yīng)用到國內(nèi)外眾多知名子、太陽能企業(yè)當(dāng)中，以較的價比，成功替代了國外進口產(chǎn)品，頗受用戶好評。

磁控濺射顆粒

公司主要經(jīng)營產(chǎn)品： 

一、真空鍍膜材料 

1．純真空濺射靶材（99.9％——99.999％）

純屬靶材：鋯靶Zr、鉻靶Cr、鈦靶Ti、鋁靶Al、錫靶Sn、釩靶V、銻靶Sb、銦靶、硼靶B、鎢靶W、錳靶Mn、鉍靶Bi、銅靶Cu、石墨靶C、硅靶 Si、鉭靶 Ta、鋅靶Zn、鎂靶Mg、鈮靶Nb、鉬靶Mo、鈷靶Co、鐵靶Fe、鍺靶Ge、鉿靶Hf、鉛靶Pb、鎳靶Ni、銀靶Ag、硒靶Se、鈹靶Be、碲靶Te、不銹鋼靶材S.S等……

多元合靶材： 鈦鋁靶Ti-Al、鈦鋯靶Ti-Zr、鈦硅靶Ti-Si、鈦鎳靶Ti-Ni、鎳鉻靶Ni-Gr、鎳鋁靶Ni-Al、鎳釩靶Ni-V、鎳鐵靶Ni-Fe、鐵鈷靶Fe-Co、鋁硅靶Al-Si、鈦硅靶Ti-Si、鉻硅靶Cr-Si、鋅鋁靶Zn-Al、鈦鋅靶材Ti-Zn、鋁硅銅靶Al-Si-Cu等……

陶瓷濺射靶材：ITO靶、單晶硅靶、多晶硅靶、一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化鈦靶TiO2、氧化鋯靶ZrO2、二硼化鈦靶TiB2、氧化鎂靶MgO、碳化硼靶BC、氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC、三氧化二釔靶Y2O3、五氧化二釩靶V2O5、氧化鋅靶ZnO、硫化鋅靶ZnS、硫化鉬靶MoS、硫化鎢靶WS、氧化鋅鋁靶ZAO、氧化鋁靶Al2O3、鈦酸鍶靶SrTiO3、五氧化二鉭靶Ta2O5、五氧化二鈮靶Nb2O5、氧化鋅鎵靶ZGO、氧化鋅硼靶ZBO、砷化鎵靶GaAs，磷化鎵靶GaP，硒化鋅靶、錳酸鋰靶、鎳鈷酸鋰靶、鉭酸鋰靶，鈮酸鋰靶、等… 

稀土屬靶：鑭靶、鈰靶、鐠靶、釹靶、釤靶、銪靶、釓靶、鋱靶、鏑靶、鈥靶、鉺靶、銩靶、鐿靶、镥靶、釔靶等… 

稀土氧化物靶：氧化鑭靶、氧化鈰靶、氧化鐠靶、氧化釤靶、氧化銪靶、氧化釹靶、氧化釓靶、氧化鋱靶、氧化鏑靶、氧化鈥靶、氧化鉺靶、氧化銩靶、氧化鐿靶、氧化镥靶 

屬膜阻器用Ni-Cr-Si/ Ni-Cr-Mn-Cu濺射靶材：

屬膜阻器用靶材括阻系列（ZYG）、中阻系列（ZYZ）和低阻系列（ZYC）、超低阻系列（ZYCD）。

2．純光學(xué)鍍膜材料（99.99％——99.999％）

氧化物：一氧化硅、二氧化硅、一氧化鈦、二氧化鈦、三氧化二鈦、五氧化三鈦、二氧化鋯、二氧化鉿、二氧化鈰、二鈦酸鐠、三氧化鎢、五氧化二鉭、五氧化二鈮、三氧化二鈧、三氧化二鋁、三氧化二銦、氧化鐿、氧化鋅、氧化鎂、氧化釓、氧化釤、氧化釹、氧化鈣、氧化鐠、氧化鉍、氧化鉻、氧化鎳、氧化銅、氧化鐵、氧化釩等… 

氟化物：氟化鎂、氟化鈣、氟化釹、氟化鑭、氟化鐿、氟化釔、氟化鉺、氟化釤、氟化鏑、氟化鈰、氟化鋇、氟化鍶、氟化鉀、氟化鈉等… 

硫化物：硫化鋅、硫化鉬、硫化鈣、硫化銻、硫化鐵、硫化鈉等…

靶(Au)

名稱

尺寸

純度

絲（Au）

Φ0.001mm—1.0mm

99.99% 99.995% 99.999%

絲（Au）

Φ1.0mm—3.0mm

99.99% 99.995% 99.999%

粒（Au）

Φ2*5mm or Φ2*10mm

99.99% 99.995% 99.999%

粒（Au）

Φ3*3mm or Φ3*5mm

99.99% 99.995% 99.999%

片（Au）

T 0.10mm—T 2mm

99.99% 99.995% 99.999%

粉（Au）T18937326747(不是聯(lián)系方式)

0.01um—1.0um 1-5um -200目 -325目

99.99%

標(biāo)準(zhǔn)裝為：100g 250g 500g 1000g 10kg 25kg 50kg

靶材是子工業(yè)實現(xiàn)各種功能鍍膜的材料，因此靶材行業(yè)的展主要還是依賴于下游應(yīng)用產(chǎn)業(yè)的進步。而近年來材料、子的展，各種光薄膜、磁薄膜以及子薄膜在這些技術(shù)領(lǐng)域廣泛應(yīng)用。技術(shù)產(chǎn)業(yè)的展，也讓靶材的生產(chǎn)逐漸趨于專業(yè)化?？梢哉f，靶材行業(yè)是子產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵撐。

據(jù)《中國靶材行業(yè)報告》的統(tǒng)計，我國靶材產(chǎn)業(yè)的市場規(guī)模逐年擴大，僅濺射靶材在半導(dǎo)體集成路領(lǐng)域的應(yīng)用規(guī)模目前就已經(jīng)達(dá)到十多億元。作為制備和生產(chǎn)功能薄膜的方法之一，濺射法廣泛應(yīng)用于許多領(lǐng)域。它是目前制備屬薄膜最常用的工藝。作為技術(shù)用的靶材是一種全的概念。隨著技術(shù)用材料突飛猛進的展，靶材的市場銷售規(guī)模日益擴大

【原創(chuàng)內(nèi)容】
屬鉬作為背靶材料。不銹鋼管(SST)–目前最常使用不銹鋼管作為旋轉(zhuǎn)靶材的背管，因為不銹鋼管有良好的強度和導(dǎo)熱而且非常經(jīng)濟二、背靶重復(fù)使用大部分背靶可以重復(fù)使用，尤我們現(xiàn)有需要維修的地方會書面通知戶并提供維修報價三、裝和運輸所有已貼合靶材裝在真空密封塑料袋中，并附有防潮劑。外裝一般為木箱，四周有防撞層，以保護靶材用戶對背靶的檢查結(jié)果，如我們現(xiàn)有需要維修的地方會書面通知戶并提供維修報價。影響靶材中的因素主要是反應(yīng)氣體和濺射氣體的比例，反應(yīng)氣體過量就會導(dǎo)致靶中。反應(yīng)用戶對背靶的檢查結(jié)果，如我們現(xiàn)有需要維修的地方會書面通知戶并提供維修報價。影響靶材中的因素主要是反應(yīng)氣體和濺射氣體的比例，反應(yīng)氣體過量就會導(dǎo)致靶中。反應(yīng)用戶對背靶的檢查結(jié)果，如我們現(xiàn)有需要維修的地方會書面通知戶并提供維修報價。影響靶材中的因素主要是反應(yīng)氣體和濺射氣體的比例，反應(yīng)氣體過量就會導(dǎo)致靶中。反應(yīng)需要進行溫帖合的條件下，無氧化銅容易被氧化和生翹曲,所以會使用屬鉬為背靶材料或某些靶材如陶瓷甚至某些屬靶材的熱膨脹系數(shù)無法與無氧銅匹配，同樣也需要使用第二步與{dy}步類似用酒精清潔；第三步用去離子水清洗。在用去離子水清洗過后再將靶材放置在烘箱中以100攝氏度烘干30分鐘。氧化物及陶瓷靶材的清洗建潔用“無絨布”進行能重復(fù)使用。當(dāng)我們收到用戶提供的已使用過的背靶后，我們會首先進行卸靶處理（如適用）并且對背靶進行wq檢查，檢查的重點括背靶的平整度，完整及密封等。我們會通知