箱式氣氛爐 氣氛爐
HMF1700系列真空氣氛爐是本公司新開的種高溫箱式爐,使用1700℃硅鉬棒作為加熱元件。廣泛用于材料或化學實驗室在真空或氣氛狀態(tài)下燒結各種新材料樣品,溫度控制采用高精度控溫儀能控制到精度+/-1 ℃并且可以30段程序控溫,{zg}溫度1620℃.
工作溫度:室溫~1800℃(自由選擇)
加熱元件:電阻絲/硅碳棒/硅鉬棒/鉬絲
爐殼結構:雙層殼體結構
爐膛材質:進口高純氧化鋁多晶體纖維
爐門結構:側開門
爐膛結構:圓/方
爐膛尺寸:1L~500L(自由選配)
溫控系統:PID調節(jié)、自整定功能,并可編制30段升降溫程序
測溫方式:熱電偶
控溫精度:±1.0℃
升溫速率:推薦≤5℃/min,最快升溫速率≤10℃/min
可通氣氛:氫氣、氮氣、氬氣等多種氣體
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