進(jìn)口納米砂磨機廠家-油墨專用納米砂磨機廠家
詳細(xì)介紹:
全新 PHN 60 榮耀.雙驅(qū)動納米砂磨機是Dr.Alexander.Pühler在全球知名的研磨系統(tǒng)"MoliNex"上做了進(jìn)一步的研發(fā),并取得專利局批準(zhǔn);
通過采用{zx1}研發(fā)的 MDC多通道動態(tài)分級輪研磨轉(zhuǎn)子功能部件與大流量無篩網(wǎng)離心式料珠分離,HDS分離物料及超微細(xì)研磨介質(zhì)的{zx1}設(shè)計理念,出料通暢無阻,yb堵塞,沒有清洗堵網(wǎng)的煩惱。
德國設(shè)計新星分離技術(shù),使得物料粗細(xì)分離研磨,大流量、高品質(zhì),比傳統(tǒng)立式砂磨機提高38-57%以上的效率。
研磨介質(zhì)最小可用Φ0.03mm,常用0.1mm,0.2mm,0.3mm,0.5mm微珠研磨。
實現(xiàn)納米級細(xì)度研磨及分散,D99≦100nm。產(chǎn)品顆粒結(jié)構(gòu)分布均勻,粒徑正態(tài)分布范圍窄小。
全封閉式,短/粗型的研磨腔設(shè)計元素,16:10 之黃金分割比例的長度/直徑/線速度系數(shù)比更佳,高能密度(2 kW/dm3)銷棒 ECM高速納米砂磨機生產(chǎn)效率是普通砂磨機的3-5倍,
通過改良后的出料口設(shè)置于出料閥蘭的中下部,降低了物料沉湎時所帶來的研磨腔內(nèi)分離器的堵塞;
采用全進(jìn)口帶冷卻液的雙向滑動雙端面機械密封裝置,密封效果好,運行可靠,保證了軸承運行的可靠性,能保證獲得{zg}的生產(chǎn)能力,并將其wm合理組合,為您提供更經(jīng)濟的濕法研磨技術(shù);
對于防金屬污染的物料,可采用氧化鋯陶瓷(碳化硅,氮化硅,GX 280特耐磨鋼)及PU 聚氨酯結(jié)構(gòu)材料。
應(yīng)用:
PHN 60CE:主要應(yīng)用于要求“零污染”及高粘度、高硬度物料的超細(xì)研磨及分散:
1) Color paste / Color filter / TFT LCD :R﹑G﹑B﹑Y 及BM 已成功地分散研磨到納米級,透明度需超過90%,粘度控制在 5-15 CPS,含水率在1%以下。
2) Ink-jet Inks:顏料型Ink-jet Inks 已成功地分散研磨到納米級,粘度控制在5 CPS 以下。
3) CMP (chemical mechanical polish) slurry:半導(dǎo)體晶片研磨所需之研磨液粒徑已達(dá)納米級且能滿足無金屬離子析出要求。
4) TiOPc (optical contact):應(yīng)用于雷射列表機光鼓上所涂布光導(dǎo)體,已研磨分散到納米級。
5) 納米級粉體研磨,如TiO2﹑ZrO2﹑Al2O3﹑ZnO﹑Clay﹑CaCo3﹑…,可分散研磨到30 nm。
6) 納米級粉體分散。如將納米粉體分散到高分子,或?qū)⒓{米級粉體添加到塑膠﹑橡膠等進(jìn)行分散。
7) 醫(yī)藥達(dá)到納米級要求,且需能滿足FDA 要求。
8) 食品添加劑達(dá)到納米級之要求。如β胡蘿卜素…,需滿足GMP 要求。
9) 電子化學(xué)品達(dá)到納米級需求,且需能滿足無金屬離子析出問題。
10)其他特種軍工, 航空納米材料。
11)如:電子產(chǎn)業(yè)﹑光電產(chǎn)業(yè)﹑醫(yī)藥生化產(chǎn)業(yè)﹑化纖產(chǎn)業(yè)﹑建材產(chǎn)業(yè)﹑金屬產(chǎn)業(yè)﹑﹑磁性材料﹑保健品﹑生物制藥和細(xì)胞破碎﹑氧化物﹑納米材料﹑醫(yī)藥生化產(chǎn)業(yè)﹑肥皂、皮革、電子陶瓷、導(dǎo)電漿料、膠印油墨、紡織品、噴繪油墨、芯片拋光液、細(xì)胞破碎、化妝品、噴墨墨水、金屬納米材料、塑料材料、特種納米航空材料等行業(yè).
技術(shù):
PHN 60CE Nanomill:
Pühler 全新型超大納米研磨機已經(jīng)申請了{(lán)gjj}發(fā)明專利,是一款以高強度納米珠磨機技術(shù)為基礎(chǔ)的新機納米研磨型機臺,該款機型效率高、節(jié)能、環(huán)保。是世界上{zd0}的可連續(xù)生產(chǎn)的超細(xì)納米研磨設(shè)備。
PHN 特點優(yōu)勢:
PHN 60雙驅(qū)動臥式納米研磨機是一款真正的研磨至納米級范圍內(nèi)的gd研磨機器,采用先進(jìn)的銷棒研磨體系設(shè)計ECM,轉(zhuǎn)子外表面安裝了大量耐磨鋼材質(zhì)的棒銷,與定子形成了研磨腔,MDC 多通道動態(tài)分級輪研磨轉(zhuǎn)子旋轉(zhuǎn)形成強大研磨渦流撞擊和剪切力,將物料經(jīng)動態(tài)分離器 OCS 循環(huán)研磨,循環(huán)研磨工藝提高了生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量,降低了能耗,產(chǎn)品顆粒級配分布得以優(yōu)化,物料研磨品質(zhì)粒度分布窄,最小研磨細(xì)度Dmax< 30nm。對于防金屬污染的物料,可采用氧化鋯陶瓷、碳化硅或聚氨酯結(jié)構(gòu)材料。
1.理想的細(xì)度保障。2. 不變色。3. 機架整體澆鑄成型。4. 高產(chǎn)低能耗。5. 配件低損耗。6. 快速簡單的操作。7. 拒絕頻繁停機。8. 最及時專業(yè)的服務(wù)。
省時,{gx},節(jié)能,壽命長,噪音低,運轉(zhuǎn)平穩(wěn),操作簡單,易于操作和維修,運行維護(hù)成本低
派勒生產(chǎn)的研磨和分散設(shè)備主要應(yīng)用于:化工、油漆、顏料、有機物/礦物,密封劑和粘結(jié)劑、陶瓷、醫(yī)藥、生物制品等領(lǐng)域。這些不同的工業(yè)領(lǐng)域?qū)υO(shè)備技術(shù)的要求差異很大。因此設(shè)備必須可靠,使用壽命長,操作方便和量身定做。這正是我們的力量所在,選擇我們作為貴方工程的可靠伙伴!派勒PUHLER,德國技術(shù),派勒智能-您的納米研磨成套方案提供商,真誠期待與您合作!
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