制藥廠不同處理單元和處理環(huán)節(jié)產(chǎn)生的主要惡臭污染物種類和濃度不盡相同，差別很大。發(fā)酵是制藥生產(chǎn)過(guò)程中的一個(gè)重要生產(chǎn)流程，在此過(guò)程中會(huì)產(chǎn)生大量的惡臭氣體，因此發(fā)酵塔污染物總濃度高于污水處理站的污染物總濃度。發(fā)酵塔臭氣濃度是污水處理站的 1. 5 倍，由于惡臭的特殊性，產(chǎn)生惡臭的主要物質(zhì)往往是那些閾稀釋倍數(shù)較高的惡臭物質(zhì)，但是也不能wq斷定閾稀釋倍數(shù){zg}的惡臭物質(zhì)對(duì)臭氣的貢獻(xiàn){zd0}.所以，綜合實(shí)測(cè)數(shù)據(jù)和以上分析，篩選了發(fā)酵塔和污水處理站兩個(gè)處理單元質(zhì)量濃度前 5名的物質(zhì)和閾稀釋倍數(shù)前 5 名的物質(zhì)見(jiàn)表 2.初步識(shí)別制藥廠特征污染物如下： 發(fā)酵塔： 乙醇、戊烷、2,3-二甲基丁烷、甲基異丁酮和對(duì)-二乙苯； 污水處理站： 乙醇、2,3-二甲基丁烷、3-甲基己烷、2,4-二甲基戊烷和對(duì)-二乙苯。對(duì)于某些污染源臭氣濃度較大而測(cè)得的污染物質(zhì)較少或閾稀釋倍數(shù)較低的情況，由于現(xiàn)階段實(shí)驗(yàn)儀器和測(cè)試水平的限制，有很多污染物質(zhì)均為低于檢出限，而這些物質(zhì)也許是貢獻(xiàn)臭氣濃度的主要物質(zhì)，需要進(jìn)一步篩選進(jìn)行下一步研究。

武漢時(shí)泰環(huán)?？萍加邢薰臼且患乙詮U氣惡臭氣體的凈化治理的環(huán)保新型科技公司，以專業(yè)的角度從廢氣工況調(diào)查、凈化方案設(shè)計(jì)、設(shè)備選型、工程施工安裝、系統(tǒng)調(diào)試以及廢氣排放檢測(cè)等所有工作提供咨詢及指導(dǎo)。根據(jù)以往的項(xiàng)目經(jīng)驗(yàn)和本身的研發(fā)成果，以對(duì)制藥行業(yè)的廢氣了解，最終自主研發(fā)的ST-PI系列光離子解廢氣凈化設(shè)備（該設(shè)備以獲得國(guó)家實(shí)用新型專利（專利號(hào)：ZL 2012 2 0413160.5）），其原理利用高能UV紫外線光，裂解惡臭物質(zhì)分子及空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，與其氧分子結(jié)合產(chǎn)生臭氧。通過(guò)高能紫外線及臭氧對(duì)惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同光解氧化作用。使惡臭物質(zhì)降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物。例：水，二氧化碳?？蛇m應(yīng)高濃度，大氣量，不同惡臭氣體物質(zhì)的脫臭凈化處理。