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鄭州天一萃取科技有限公司

鄭州天一萃取科技有限公司主要從事:新型離心萃取機(jī)，萃取槽，萃取塔，防腐噴涂和攪拌設(shè)備。目前公司的主要產(chǎn)品系列：CWL-N型{gx}節(jié)能離心萃取機(jī)、CWL-M型{gx}節(jié)能離心機(jī)、萃取槽、{gx}萃取塔、halar(F30)防腐噴涂、混合設(shè)備以及各設(shè)備相關(guān)部件的研發(fā)和生產(chǎn)。公司自身實力雄厚，{zy1}的品質(zhì)定位和完善的售后服務(wù)體系，已在國內(nèi)離心機(jī)行業(yè)中sqyz。
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   Halar ECTFE (poly(chlorotrifluoethylene-ethylene))是乙烯、三氟氯乙烯（CTFE）的交替共聚物。Halar ECTFE是半結(jié)晶和可熔融加工的含氟聚合物。
   Halar具有出色的耐化學(xué)性能和優(yōu)異的阻隔性能。工業(yè)上常用的化學(xué)試劑幾乎都不能對Halar產(chǎn)生任何影響。Halar能夠抵抗的化學(xué)品包括：強(qiáng)無機(jī)酸和有機(jī)酸、強(qiáng)堿、金屬刻蝕劑、液氧、除熱胺類（如苯胺、二甲胺）以外的所有有機(jī)溶劑。此外，和其它含氟聚合物一樣，Halar會被金屬鈉和鉀破壞。然而，Halar對氫氧化鈉和氫氧化鉀具有很強(qiáng)的抵抗作用。當(dāng)然，抵抗作用的強(qiáng)弱會受到暴露時間的長短和溫度高低的影響。

   Halar和其它含氟聚合物一樣會被某些鹵化溶劑輕微塑化，但這并不影響它的使用。一旦停止它與鹵化溶劑的接觸，進(jìn)行干燥，機(jī)械性能夠恢復(fù)，這說明Halar沒有受到化學(xué)破壞。 Halar能夠抵抗syhed和一甲肼。Halar還有以下用途：使用濃氫氧化鈉溶液的氯氣和二氧化氯氣體洗滌器；使用鉻酸混合液的金屬酸浸槽和電鍍槽；暴露在硫酸-過氧化氫混合液中的半導(dǎo)體工作臺；濃酸的存貯裝置；氯酸鈉的生產(chǎn)裝置。


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