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青島福盟微電子擴(kuò)散爐--{zd0}限度滿足客戶需求
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擴(kuò)散/氧化系統(tǒng)是半導(dǎo)體器件及大規(guī)模集成電路制造過程中用于對晶片進(jìn)行擴(kuò)散、氧化、退火、合金及燒結(jié)等工藝的一種熱加工設(shè)備。其組成有：加熱爐（擴(kuò)散爐主機(jī)）、凈化工作臺、送片系統(tǒng)（推拉舟系統(tǒng)）、氣源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)等。 1、全中文操作界面，可編輯參數(shù)，操作簡便。 2、可保存多條工藝曲線，每條曲線可設(shè)置多步。 3、工藝曲線的自動運行控制功能。 4、自動運行中可暫停/繼續(xù)運行功能。 5、工藝中可強(qiáng)制跳到下一工藝步運行功能。 6、智能升降溫斜率控制功能。 7、PID參數(shù)自整定功能。 8、可存儲多組PID參數(shù)供系統(tǒng)運行調(diào)用功能。 9、系統(tǒng)故障的檢測與報警功能。 10、系統(tǒng)誤差修正（單點或多點動態(tài)修正功能）。 11、智能懸臂推拉舟控制功能。 12、工藝氣體的程序控制功能（電磁閥/質(zhì)量流量控制器）。 13、停電后斷點繼續(xù)運行功能等等。 該系統(tǒng)可根據(jù)用戶的特殊要求增減或開發(fā)相應(yīng)的功能。 擴(kuò)散爐主機(jī)主要技術(shù)指標(biāo) 可配工藝管外徑：2-8英寸 可配工藝管數(shù)量：1-4管/臺 工作溫度范圍：400-1286℃ 恒溫區(qū)長度及精度：300-1000mm 800-1300℃±0.5℃ 單點溫度穩(wěn)定性：800-1300℃±1℃/24h {zd0}可控升溫速度：15℃/min {zd0}降溫速度：5℃/min
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