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青島福盟微電子半導體行業(yè)真空爐-高性能F
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青島福盟微電子半導體行業(yè)真空爐-高性能F

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從結構上分為臥式、立式、箱式,從真空度上分為低真空、高真空,從使用溫度上分為低溫、高溫,從真空室材料上分為石英管、耐熱 不銹鋼管,從真空獲得上分機械泵、機械泵+擴散泵、機械泵+分子泵。 設備用途:廣泛用于電力電子器件、玻封二級管、氣體放電管、磁性材料、熱敏電阻等器件的真空燒結、封裝、焊接、合金、退火等工藝。 主要技術指標: ★工位: 單、雙、三工位 ★工作溫度: 300~1100℃(不銹鋼真空室{zg}1000℃) ★真空度: 優(yōu)于5×10-3 Pa ★真空室直徑:Φ150~300 mm ★恒溫區(qū)長度:400~1000 mm ★控制精度: ±1.0~3.0℃ ★爐體移動速度:0~400 mm/min ★{zd0}充氣壓力:0.5 MPa (不銹鋼真空室) ★加熱功率: 10~80 KVA ★控制系統(tǒng): 進口儀表+PLC+觸摸屏 ★安全連鎖保護:超溫、斷偶、缺水、壓力異常保護報警
鄭重聲明:產品 【青島福盟微電子半導體行業(yè)真空爐-高性能F】由 青島福盟微電子設備有限公司管式爐 發(fā)布,版權歸原作者及其所在單位,其原創(chuàng)性以及文中陳述文字和內容未經(企業(yè)庫www.nnfsds.com)證實,請讀者僅作參考,并請自行核實相關內容。若本文有侵犯到您的版權, 請你提供相關證明及申請并與我們聯(lián)系(qiyeku # qq.com)或【在線投訴】,我們審核后將會盡快處理。
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