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脈沖磁控濺射

作者:中山市昊源電器設(shè)備有限公司 來源:zshaoyuan 發(fā)布時(shí)間:2015-04-02 瀏覽:427

在一個(gè)周期內(nèi)存在正電壓和負(fù)電壓兩個(gè)階段,在負(fù)電壓段,中山真空電鍍電源銷售電源工作于靶材的濺射,正電壓段,引入電子中和靶面累積的正電荷,并使表面清潔,裸露出金屬表面。

加在靶材上的脈沖電壓與一般磁控濺射相同!為400~500V,電源頻率在10~350KHz,在保證穩(wěn)定放電的前提下,應(yīng)盡可能取較低的頻率#由于等離子體中的電子相對離子具有更高的能動性,雙脈沖磁控濺射電源因此正電壓值只需要是負(fù)電壓的10%~20%,就可以有效中和靶表面累積的正電荷。中山雙脈沖磁控濺射電源供應(yīng)占空比的選擇在保證濺射時(shí)靶表面累積的電荷能在正電壓階段被wq中和的前提下,盡可能提高占空,以實(shí)現(xiàn)電源的{zd0}效率。

鄭重聲明:資訊 【脈沖磁控濺射】由 中山市昊源電器設(shè)備有限公司 發(fā)布,版權(quán)歸原作者及其所在單位,其原創(chuàng)性以及文中陳述文字和內(nèi)容未經(jīng)(企業(yè)庫www.nnfsds.com)證實(shí),請讀者僅作參考,并請自行核實(shí)相關(guān)內(nèi)容。若本文有侵犯到您的版權(quán), 請你提供相關(guān)證明及申請并與我們聯(lián)系(qiyeku # qq.com)或【在線投訴】,我們審核后將會盡快處理。
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