桌面小型蒸鍍儀
工藝控制:PC/PLC機(jī)制的自動控制、數(shù)據(jù)處理、工藝記憶儲存;
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原位監(jiān)控:石英晶振監(jiān)測(QCM),光學(xué)監(jiān)測,殘余氣體分析,其他原位監(jiān)測技術(shù)或控制;
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襯底固定:單襯底固定,客戶化襯底固定方式;
- 襯底夾具:加熱,冷卻,偏置,旋轉(zhuǎn)等;
- 保護(hù)樣品:配有樣品擋板,可手動或自動開/關(guān)擋板,達(dá)到及時(shí)遮擋樣品效果;
不同真空度 不同鍍膜時(shí)間鍍銅樣品圖
原樣品沒有鍍膜 115A 100秒 機(jī)械泵
115A 100秒 分子泵抽12分鐘 115A 120秒 分子泵抽20分鐘
真空度越高 越不易氧化 越接近金屬本色
桌面小型蒸鍍儀KT-Z1650CVD
控制方式
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7寸人機(jī)界面 手動 自動模式切換控制
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加熱方式
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數(shù)字式功率調(diào)整器
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鍍膜功能
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0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
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功率
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≤1200W
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輸出電壓電流
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電壓≤12V 電流≤120A
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真空度
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機(jī)械泵 ≤5Pa(5分鐘) 分子泵≤10^-3Pa
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擋板類型
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電控
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真空腔室
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石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm
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樣品臺
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可旋轉(zhuǎn)φ62 (可安裝φ50基底)
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樣品臺轉(zhuǎn)速
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8轉(zhuǎn)/分鐘
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樣品蒸發(fā)源調(diào)節(jié)距離
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70-140mm
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蒸發(fā)溫度調(diào)節(jié)
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≤1800℃
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支持蒸發(fā)坩堝類型
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鎢絲藍(lán) 帶坩堝鎢絲藍(lán) 鎢舟 碳繩
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預(yù)留真空接口
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KF25抽氣口 KF16真空計(jì)接口 KF16放氣口 6mm卡套進(jìn)氣口
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可選配擴(kuò)展
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機(jī)械真空泵(可抽真空 5分鐘<5Pa)
數(shù)顯真空計(jì)(測量范圍大氣壓到0.1Pa)
分子泵機(jī)組(可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa)
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