HI84100二氧化硫測定分析儀綜合測定儀
HI84100采用滴定分析方法快速測量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量。在食品加工領(lǐng)域,二氧化硫的主要應(yīng)用是進行防腐。以葡萄酒為例,當有氧存在時將{zx0}與二氧化硫發(fā)生反映,起到抗氧化的作用,進而保證酵母菌的正常發(fā)酵,并抑制其他雜菌。
1. 基于微電腦控制技術(shù),集滴定分析,磁力攪拌和電極測量于一體。
2. 性能優(yōu)良操作簡單,可直接顯示測量結(jié)果。
3. 人性化設(shè)計,具有穩(wěn)定標識和校準信息等顯示功能。
4. 殘留二氧化硫濃度取決于三個因素:總添加量,原初始量,添加的氧化程度
5. 通常殘留二氧化硫濃度為0.8ppm即可保證抗氧化和凈化雜菌的作用。
6. 當殘留濃度超過2.0ppm時,即被人感知到,因此以此濃度作為上限值。
型號 |
HI84100二氧化硫測定儀 |
測量范圍 |
0 to 400ppm SO2 |
解析度 |
1 ppm |
精度 |
讀數(shù)的5% |
測量原理 |
氧化還原滴定 |
樣品量 |
50ml |
RP電極 |
HI3148B |
泵流量 |
0.5ml/Minute |
磁力攪拌器 |
1500rpm |
操作環(huán)境 |
0 to 50℃(32 to 122℉):{zd0}RH95%無冷凝 |