2018-2022年中國電子化學品市場深度研究與發(fā)展前景報告（編號：669932）

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第1章  濕電子化學品產品概述

1.1電子化學品概述

1.1.1電子化學品及其分類

1.1.2 電子化學品在發(fā)展電子信息產業(yè)中重要地位

1.1.3 電子化學品行業(yè)特點

1.2 濕電子化學品概述

1.2.1 濕電子化學品定義與品種

1.2.2 濕電子化學品的品種

1.2.3濕電子化學品的主要應用

1.3 濕電子化學品的行業(yè)特點

1.3.1 用途的關鍵性

1.3.2 行業(yè)的高增長性

1.3.3 品種的多樣性

1.3.4 廠商的高壟斷性

1.4 我國發(fā)展?jié)耠娮踊瘜W品產業(yè)的政策

第2章  主要濕電子化學品性能要求及生產技術

2.1 濕電子化學品的質量規(guī)格及標準

2.1.1濕電子化學品的質量標準的演變

2.1.2 濕電子化學品的SEMI標準

2.1.3國內濕電子化學品的標準

2.2 濕電子化學品主要品種性能、應用及其制備工藝路線

2.2.1硫酸的性能、應用及其制備

2.2.2過氧化氫的性能、應用及其制備

2.2.3氫氟酸的性能、應用及其制備

2.2.4鹽酸的性能、應用及其制備

2.2.5硝酸的性能、應用及其制備

2.2.6磷酸的性能、應用及其制備

2.2.7氫氧化銨的性能、應用及其制備

2.3 濕電子化學品制造的關鍵技術

2.3.1制備工藝技術

2.3.2分析測試技術

2.4 濕電子化學品的包裝技術

2.4.1 濕電子化學品包裝技術總述

2.4.2 對專用氟樹脂包裝材料的要求

2.4.2.1氟樹脂概述

2.4.2.2各種氟樹脂的主要性能比較

2.4.3 對專用高密度聚乙烯樹脂包裝材料的要求

2.4.3.1高密度聚乙烯樹脂概述

2.4.3.2樹脂主要技術指標要求

2.4.3.3 樹脂制造技術要求

2.5 世界濕電子化學品前沿技術的新發(fā)展與應用

2.5.1當前世界濕電子化學品前沿產品市場主要競爭的焦點

2.5.2世界主要企業(yè)濕電子化學品新產品開發(fā)的新動向

2.5.2.1 AIR PRODUCTS

2.5.2.8 和光純藥工業(yè)

第3章  世界濕電子化學品市場格局、生產與企業(yè)現況

3.1 世界濕電子化學品行業(yè)的發(fā)展歷程

3.2 世界濕電子化學品市場格局

3.2.1世界濕電子化學品市場格局所經歷的三個發(fā)展時期

3.2.2 世界濕電子化學品市場的現況

3.2.3 世界濕電子化學品市場格局

3.4 歐美企業(yè)濕電子化學品主要生產企業(yè)情況

3. 4.1 Basf公司

3.4.8 HenKel集團

3.5 日本企業(yè)濕電子化學品主要生產企業(yè)情況

3.5.1住友化學公司

3.5.15 Santoku化學工業(yè)公司

3.6 韓國企業(yè)濕電子化學品主要生產企業(yè)情況

3.6.1東友精細化工有限公司

3.6.3 ENF 科技有限公司

3.7 臺灣企業(yè)濕電子化學品主要生產企業(yè)情況

3.7.1臺灣東應化股份有限公司

3.7.8臺灣其它濕電子化學品生產企業(yè)

第4章  我國濕電子化學品生產與企業(yè)發(fā)展現況

4.1 我國濕電子化學品行業(yè)的發(fā)展歷程

4.1.1初期發(fā)展階段（20世紀70年代中期至21世紀前十年代中期）

4.1.2 生產轉向規(guī)模化的發(fā)展階段（2006年—2009年）

4.1.3 大規(guī)?；a高速發(fā)展階段（2013年起）

4.2 我國濕電子化學品生產的現況與發(fā)展

4.2.1 我國濕電子化學品的生產情況

4.2.2我國濕電子化學品生產地區(qū)分布現況

4.2.3 我國濕電子化學品市場分布現況

4.3 我國濕電子化學品生產企業(yè)概況

4.4 國內濕電子化學品主要生產企業(yè)情況

4.4.1 江陰江化微電子材料股份有限公司

4.4.34 昆山瑞和信息材料科技有限公司

第5章  濕電子化學品在半導體制程上應用及其市場現狀

5.1濕電子化學品在半導體晶圓加工中應用總述

5.2 半導體晶圓加工中對濕電子化學品的質量要求

5.2.1 雜質對集成元件的有害影響

5.2.2 對濕電子化學品的潔凈度要求

5.2.2.1 對微粒數的控制

5.2.2.2 對雜質的控制

5.2.3 對濕電子化學品的包裝存儲和運輸的要求

5.3 晶圓清洗與蝕刻中所用濕電子化學品的主要品種

5.4 濕電子化學品在半導體晶圓加工中的清洗功效

5.4.1 硅片加工中的化學清洗

5.4.2 晶圓濕法化學清洗中用濕法化學品品種

5.4.2.1 晶圓清洗用堿性類溶液

5.4.2.2晶圓清洗用酸性類溶液

5.4.2.3 SPM清洗劑

5.4.2.4 稀釋HF清洗劑

5.5 濕電子化學品在半導體晶圓加工中的蝕刻功效

5.5.1 集成電路制程中的蝕刻技術

5.5.2 濕電子化學品在濕式刻蝕中的應用

5.5.4.1 絕緣膜蝕刻

5.5.4.2 半導體膜蝕刻

5.5.4.3導體膜蝕刻

5.5.4.4有機材料蝕刻

5.6 濕電子化學品在半導體晶圓制造中需求量情況

5.6.1實際消耗濕化學品量的調查與測算

5.6.2 國內半導體芯片生產量的現況

第6章  濕電子化學品在太陽能電池硅片制程上應用及其市場現狀

6.1 太陽能電池及其制造過程

6.1.1太陽能電池及其構成結構

6.1.2 硅太陽能電池的制造過程

6.2 濕電子化學品在太陽能電池硅片制造中的應用情況

6.2.1 總述

6.2.2制絨加工及其使用濕電子化學品情況

6.2.2.1兩種不同的化學液體系的制絨工藝

6.2.2.2單晶硅的制絨及其使用濕電子化學品情況

6.2.2.3 多晶太陽電池片的制絨及其使用濕電子化學品情況

6.2.2.4 光刻加工及其使用濕電子化學品情況

6.3 濕電子化學品在太陽能電池片制造中需求量情況

第7章  濕電子化學品在液晶顯示制造中應用及其市場現狀

7.1 液晶顯示面板結構及制造工藝

7.2 濕電子化學品在LCD面板制作中的作用

7.2.1 清洗

7.2.2 剝離-蝕刻

7.2.3 顯影

7.3 在LCD面板制作用濕電子化學品品種及性能要求

7.3.1 顯影液

7.3.2 Mo/Al金屬蝕刻液

7.3.3 Cu蝕刻液

7.3.4 剝離液

7.3.5 ITO蝕刻液

7.3.6 電子級HF溶液

7.4 LCD面板制作用濕電子化學品的需求市場情況

7.4.1我國4.5代以上的液晶面板投產、投建的情況

7.4.2 我國4.5代以上的液晶面板制造中濕化學品需求量情況

第8章  我國濕電子化學品總市場的現況與分析（博·研·咨·詢）

8.1 2017年我國濕電子化學品市場規(guī)?？偸?

8.2 我國濕電子化學品市場結構現況

8.2.1 三大應用市場的濕電子化學品需求量的比例變化及其預測

8.2.2 三大應用市場的濕化學品品種結構及其分析

8.2.3 三大應用市場對濕化學品產品的純度要求

8.3 我國濕電子化學品生產廠商及其市場份額現況

8.3.1國內半導體晶圓市場所需濕電子化學品的主要生產提供廠商現況

8.3.2國內液晶顯示市場所需濕電子化學品的主要提供廠商現況

8.3.3國內晶硅太陽電池市場所需濕電子化學品的主要提供廠商現況

8.4 三大應用市場的企業(yè)對我國濕電子化學品的發(fā)展建議

8.4.1國內半導體晶圓生產企業(yè)提出的看法與建議

8.4.2國內晶硅太陽電池生產企業(yè)提出的看法與建議

8.4.3 國內液晶顯示面板生產企業(yè)提出的看法與建議

8.5 對國家支持發(fā)展我國濕法電子化學品產業(yè)的看法與建議（博·研·咨·詢）

圖表目錄（部分）：

圖1-1 電子化學品的產業(yè)鏈

圖2-1 硫酸制備工藝路線示意圖

圖2-2 過氧化氫減壓精餾工藝流程示意圖

圖2-3 氫氟酸精餾工藝流程示意圖

圖2-4 超純鹽酸精餾工藝流程示意圖

圖2-5 超純硝酸精餾工藝流程示意圖

圖2-6 超純磷酸制備工藝路線示意圖

圖2-7 氫氧化銨氣體吸收工藝路線

圖2-8 氫氧化銨制備工藝流程圖

圖3-1 2013年、2017年世界濕電子化學品市場格局的情況

圖4-1 2004年～2017年我國濕電子化學品生產量統(tǒng)計及預測

圖5-1 晶圓表面污染物示意

圖5-2 槽式蝕刻機晶圓蝕刻流程示意圖

圖5-3 2017年國內半導體芯片生產用各類濕電子化學品用量占總需求量比例

圖6-1 晶體硅太陽能電池片結構示意圖

圖6-2 從多晶硅到太陽能電池組件的工藝過程

圖6-3 太陽能電池片生產工藝過程

圖6-4 太陽能電池硅片工藝過程及濕電子化學品的應用

圖6-5 單晶硅絨面與多晶硅絨面對比

圖6-6 單晶太陽電池片制絨加工工藝流程

圖 6-7 采用堿性溶液進行單晶太陽電池片制絨加工的工藝控制要點

圖6-8 多晶太陽電池片的制絨工藝流程

圖6-9 多晶太陽電池片制絨的反應過程與反應機理

圖6-10 2017年國內各類濕電子化學品用量占總需求量（消耗量）的比例

圖7-1 TFT-LCD 剖面結構示意圖

圖7-2 TFT-LCD 制作工藝流程

圖7-3 面板薄化過程厚度變化

表1-1 超凈高純濕電子化學品品種及分類

表1-2 2017年國內主要濕電子化學品市場需求量比例

表1-3 2005年與2017年國內濕化學品市場需求的各種品種比例的對比

表2-1 濕電子化學品SEMI國際標準等級

表2-2 國內半導體用濕電子化學品BV系列標準的品種分等級的規(guī)格

表2-3 硫酸SEMI標準（純度限定和其他要求）

表2-4 過氧化氫SEMI標準（純度限定和其他要求）

表2-5 高純鹽酸SEMI標準（純度限定和其他要求）

表2-6 各種氟樹脂材料的主要性能

表3-1 用于半導體制造的濕電子化學品的全球銷售額統(tǒng)計

表3-2 境外主要濕電子化學品生產企業(yè)情況

表4-1 我國濕電子化學品主要生產企業(yè)簡況及其實際產能統(tǒng)計（以2017年為計）

表5-1 沾污類型、來源和常用清洗功效的濕電子化學品

表5-2 半導體硅片濕法清洗中常用的濕電子化學品的品種及用途

表5-3 常用的濕法刻蝕技術及濕電子化學品應用品種

表5-4 國內12英寸半導體晶圓生產中使用各種濕化學品的單耗量

表5-5 國內8英寸半導體晶圓生產中使用濕化學品的單耗量

表5-6 2017年我國6英寸及以上的半導體晶圓生產廠家及其產能情況

表5-7 2017年我國半導體晶圓產量及各種濕電子化學品消耗量

表5-8 2017年國內半導體晶圓生產中消耗各類濕電子化學品量的統(tǒng)計

表6-1 太陽能電池片清洗的工藝流程

表6-2 2017年我國太陽電池片生產所消耗的各主要濕電子化學品量

表6-3 2017年國內各類濕電子化學品主要應用工藝環(huán)節(jié)及用量所占的比例

表7-1 平板顯示制造過程中涉及濕化學品品種

表7-2 TMAH的物理性能與產品相關信息

表7-3 電子級四甲基氫氧化銨（顯影液TMAH,25.0%）主要技術指標

表7-4 TFT-LCD制作用鋁蝕刻液的主要技術指標

表7-5 工業(yè)級、電子級的NMP主要性能指標

表7-6 ITO蝕刻液主要技術指標

表7-7 我國4.5代以上的液晶面板生產線及其產能統(tǒng)計

表7-8 2017年及2017年我國4.5代以上液晶面板年產能統(tǒng)計于預測

表7-9 我國內地4.5代以上LCD面板濕電子化學品需求量統(tǒng)計及預測

表7-10 我國國內面板（4.5代以上）制造中濕電子化學品需求量的統(tǒng)計、預測

表7-11 2017年我國國內面板（4.5代以上）制造中使用的各種濕電子化學品的需求量比例情況

表8-1 2017年我國三大應用市場對濕電子化學品需求量的統(tǒng)計（單位：噸 ）

表8-2 2011年～2017年我國濕電子化學品總市場需求規(guī)模推估

表8-3 三大應用市場的濕電子化學品需求量的比例變化及其預測

表8-4 國內濕電子化學品三大應用領域對各種濕電子化學品的純度要求

表8-5 國內半導體晶圓所需各類濕電子化學品的主要提供廠商

表8-6 國內液晶顯示面板所需各類濕電子化學品的主要提供廠商

表8-7 國內硅晶太陽電池片所需各類濕電子化學品的主要提供廠商

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