濺射靶材
北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發(fā)料的研發(fā)和生產(chǎn)工作,為電子行業(yè)、玻璃工業(yè)、數(shù)據(jù)存儲、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業(yè)的鍍膜企業(yè)提供高品質(zhì)的靶材和蒸發(fā)料。公司主營金屬靶材、金屬材料、光學(xué)鍍膜材料等。
濺射靶材的發(fā)展
各種類型的濺射靶材薄膜材料在半導(dǎo)體集成 電路 (VLSI) 、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等 方面都得到了廣泛的應(yīng)用。20世紀(jì)90年 以來,濺射靶材及濺射技術(shù)的同步發(fā)展,極大地滿足了各種新 型電子元器件發(fā)展的需求。例如,在半導(dǎo)體集成電路制造過程中,以電阻率較低的銅導(dǎo)體薄膜替鋁 膜布線:在平面顯示器產(chǎn)業(yè)中,各種顯示技術(shù) (如LCD、PDP 、OLED及FED等)的同步發(fā)展,有的已 經(jīng)用于電腦及計算機(jī)的顯示器制造;在信息存儲產(chǎn)業(yè)中,磁性存儲器的存儲容量不斷增加,新的磁光記錄材料不斷推陳出新 這些都對所需濺射靶材的質(zhì)量提 出了越來越高的要求,需求數(shù)量也逐年增加。
石久高研專注15年提供高純金屬靶材 高品質(zhì)、高純靶材歡迎來電咨詢~~~
濺射靶材使用指南及注意事項(xiàng)
北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發(fā)料的研發(fā)和生產(chǎn)工作,為電子行業(yè)、玻璃工業(yè)、數(shù)據(jù)存儲、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業(yè)的鍍膜企業(yè)提供高品質(zhì)的靶材和蒸發(fā)料。公司主營金屬靶材、金屬材料、光學(xué)鍍膜材料等。
濺射靶材保持真空腔體尤其是濺射系統(tǒng)潔凈是非常重要的。任何由潤滑油和灰塵以及前期鍍膜所形成的殘留物會收集水氣及其他污染物,直接影響真空度獲得和增加成膜失敗的可能性。短路或靶材起弧,成膜表面粗糙及化學(xué)雜質(zhì)含量超標(biāo)經(jīng)常是由于不潔凈的濺射室、濺射槍和靶材引起的。
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金屬靶材
北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發(fā)料的研發(fā)和生產(chǎn)工作,為電子行業(yè)、玻璃工業(yè)、數(shù)據(jù)存儲、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業(yè)的鍍膜企業(yè)提供高品質(zhì)的靶材和蒸發(fā)料。公司主營金屬靶材、金屬材料、光學(xué)鍍膜材料等。
濺射靶材使用指南及注意事項(xiàng)
短路及密封性檢查
靶材完成安裝后需要對整個陰極進(jìn)行短路檢查及密封性檢查, 建議通過使用電阻儀搖表的方式對陰極是否存在短路進(jìn) 行判斷。在確定陰極不存在短路后,可以進(jìn)行檢漏檢查,將水通入陰極確定是否存在漏水現(xiàn)象。
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