二段b（曲線bc段）：多孔層形成。隨著氧化膜的生成，電解液對(duì)膜的溶解作用也就開(kāi)始了。由于生成的氧化膜并不均勻，在膜薄的地方將首先被溶解出空穴來(lái)，電解液就可以通過(guò)這些空穴到達(dá)鋁的新鮮表面，電化學(xué)反應(yīng)得以繼續(xù)進(jìn)行，電阻減小，電壓隨之下降（下降幅度為高值的10～15%），膜上出現(xiàn)多孔層。

氧化時(shí)間：氧化時(shí)間的選擇，取決于電解液濃度，溫度，陽(yáng)極電流密度和所需要的膜厚。相同條件下,當(dāng)電流密度恒定時(shí),膜的生長(zhǎng)速度與氧化時(shí)間成正比；但當(dāng)膜生長(zhǎng)到一定厚度時(shí),由于膜電阻升高,影響導(dǎo)電能力,而且由于溫升,膜的溶解速度增大，所以膜的生長(zhǎng)速度會(huì)逐漸降低，到不再增加。

重鉻酸鹽封閉法此法適宜于封閉硫酸溶液中陽(yáng)極氧化的膜層及化學(xué)氧化的膜層。用本法處理后的氧化膜顯黃色，它的抗蝕性高，但不適用于裝飾性使用。其原理是：在較高溫度下，氧化膜和重鉻酸鹽產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)，反應(yīng)產(chǎn)物堿式鉻酸鋁及重鉻酸鋁沉淀于膜孔中，同時(shí)熱溶液使氧化膜層表面產(chǎn)生水化，加強(qiáng)了封閉作用。故可認(rèn)為是填充及水化雙重封閉作用。