不銹鋼真空電鍍有什么用處_鈦鋼真空電鍍定義

真空電鍍條件下，將金屬（靶材）汽化成原子或離子絡(luò)合物，通過電壓直接沉積到鍍件表面的方法。在日本簡稱IP電鍍，在美國成為PVD，在國內(nèi)成為稱為離子鍍。真空電鍍可選顏色多，鍍層薄，硬度高，符合環(huán)保要求，廣泛運用于金屬表面處理。

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蒸發(fā)鍍膜原理_不銹鋼可以用蒸發(fā)鍍膜去電鍍嗎

蒸發(fā)不銹鋼鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。 蒸發(fā)鍍膜：通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為蒸發(fā)鍍膜。這種方法最早由M.法拉第于1857年提出，現(xiàn)已成為常用鍍膜技術(shù)之一。 蒸發(fā)物質(zhì)如金屬、化合物等置于坩堝內(nèi)或掛在熱絲上作為蒸發(fā)源，不銹鋼鍍膜待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統(tǒng)抽至高真空后，加熱坩堝使其中的物質(zhì)蒸發(fā)。蒸發(fā)物質(zhì)的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數(shù)百埃至數(shù)微米。膜厚決定于蒸發(fā)源的蒸發(fā)速率和時間（或決定于裝料量），并與源和基片的距離有關(guān)。對于大面積鍍膜，常采用旋轉(zhuǎn)基片或多蒸發(fā)源的方式以保證膜層厚度的均勻性。

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真空鍍膜加工_不銹鋼真空鍍膜_真空鍍膜技術(shù)

在真空中制備膜層，真空鍍膜bao括鍍制晶態(tài)的金屬、半導體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。真空鍍膜雖然化學汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。

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