國內(nèi)PVD電鍍水平哪家好—不銹鋼PVD鍍鉻技術(shù)原理

本技術(shù)主要采用電弧-濺射技術(shù)，利用陰陽極之間的放電離化氬氣，使氬離子在作為陰極的靶材電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶原子，PVD電鍍中性的靶原子或離子沉積在基片上，形成固體薄膜。本項目在上述原理的基礎(chǔ)上進行改進和新技術(shù)開發(fā)，采用改進的電弧-濺射技術(shù)提高靶功率密度，采用等離子體源增強技術(shù)提高鍍膜室的等離子體密度，從而開發(fā)出環(huán)保、{gx}的快速PVD電鍍鍍鉻新技術(shù)。

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PVD電鍍好還是普通電鍍鉻好_PVD電鍍優(yōu)越的涂層性能

與電鍍鉻相比，PVD電鍍鉻涂層的硬度更高。電鍍鉻的硬度一般為Hv800～900，而PVD方法可以達(dá)到Hv1500以上，同時耐磨性遠(yuǎn)優(yōu)于電鍍鉻。PVD電鍍方法在涂層制備過程中涂層致密，沒有孔洞，不會產(chǎn)生穿透性裂紋，導(dǎo)致腐蝕介質(zhì)從表面滲透至界面而腐蝕基體，造成鍍層表面出現(xiàn)銹斑甚至剝落

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不銹鋼真空鍍膜廠家_鈦鋼鋼PVD真空鍍膜哪家好

對于磁控濺射鍍膜氣體壓強方面：

(1) 不銹鋼真空鍍膜直流和中頻脈沖磁控濺射的工作氣體壓強一般在 0.3~0.8Pa 之間(典型值為5×10-1 Pa);

(2) 射頻磁控濺射鍍膜可以在10-1~10-2 Pa工作氣體壓強下正常進行。

(3) 不銹鋼真空鍍膜真空腔室巨細(xì)、氣體流量、真空抽速和閘板閥開合角度等多種要素都或許影響到工作氣體壓強。工作氣體壓強的最終查看值，實際上應(yīng)看作是氣體流量-真空抽速與閘板閥開合角度等參數(shù)的動態(tài)平衡的成果。

(4) 有些陰極靶材的磁控濺射鍍膜技能(如對膜層的純度和表面粗造度懇求不高)還可以在1pa ~ 10Pa，甚至更高的工作氣體壓強下進行堆積鍍膜。

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