※產品特點※
1、 走位能力強,適用于形狀復雜工件的鍍鉻
2、 工作溫度范圍較寬,38-50℃均可正常工作;
3、 陰極電流效率高,沉積速度快,可采用較高的電鍍密度操作;
4、 鍍液對工件活化能力強,不易發(fā)花;
5、 對雜質容忍度高,工藝穩(wěn)定,容易控制。
※鍍液組成和工藝條件※
鉻 酐
鉻酐/硫酸
鉻酐/三價鉻
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150–250g/L
150-250 :1
100-150 :1
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220g/L
200 :1
100 -150 :1
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鉻走位劑
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8–12ml/L
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10ml/L
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溫 度
鍍液波美度
陰極電流密度
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38 – 50 ℃
19 – 23
10 – 20 安培/平方分米
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42 -45 ℃
19 – 23
15 安培/平方分米
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※設備要求※
1、 整流器: 要保證足夠的容量,波紋系數 < 5% ; 否則會影響深鍍能力;
2、 陽極應采用鉛錫合金或鉛銻合金,陰極和陽極面積比為 1 比2-3;
※鍍液配制方法※
1、 在清洗過的鍍槽內加入三分之二的蒸餾水或去離子水,并加熱到40℃;
2、 將計算量的鉻酐緩慢加入槽內,攪拌使其全部溶解;
3、 將鉻走位劑加入鍍液內,再將水量調至工作液面,并攪拌均勻;
4、,分析溶液中硫酸含量,再根據溶液中鉻酐和硫酸的比例,補加硫酸;
5、 采用大陰極、小陽極面積電解處理槽液,以產生所需量的三價鉻,也可添加雙氧水或灑精,但要十分小心;
6、 試鍍工件,觀察溶液的覆蓋能力和鍍層的亮度,若符合要求即可投入生產
※添加劑的作用※
鉻走位劑 它是混合型的催化劑,可顯著提高低電位區(qū)的覆蓋能力,還可提高電鍍的沉積速度;