東莞市鼎偉靶材有限公司是專業(yè)生產(chǎn)純金屬材料，蒸鍍膜材料以及濺射靶材的技術(shù)企業(yè)應(yīng)用的科技型民營(yíng)股份制工貿(mào)有限公司。公司以青島大學(xué)和青島科技大學(xué)蒸材料專業(yè)為技術(shù)依托，擁有多名中級(jí)專業(yè)技術(shù)人員和專業(yè)化應(yīng)用實(shí)驗(yàn)室，有很強(qiáng)的蒸材料能力。公司先后研的蒸材料、濺射靶材系列產(chǎn)品廣泛應(yīng)用到國(guó)內(nèi)外眾多知名子、太陽(yáng)能企業(yè)當(dāng)中，以較的價(jià)比，成功替代了國(guó)外進(jìn)口產(chǎn)品，頗受用戶好評(píng)。
Os鋨靶材，鈀靶材
東莞市鼎偉靶材有限公司
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公司主要經(jīng)營(yíng)產(chǎn)品：
一、真空鍍膜材料
1．純真空濺射靶材（99.9％——99.999％）
純金屬靶材：鋯靶Zr、鉻靶Cr、鈦靶Ti、鋁靶Al、錫靶Sn、釩靶V、銻靶Sb、銦靶、硼靶B、鎢靶W、錳靶Mn、鉍靶Bi、銅靶Cu、石墨靶C、硅靶 Si、鉭靶 Ta、鋅靶Zn、鎂靶Mg、鈮靶Nb、鉬靶Mo、鈷靶Co、鐵靶Fe、鍺靶Ge、鉿靶Hf、鉛靶Pb、鎳靶Ni、銀靶Ag、硒靶Se、鈹靶Be、碲靶Te、不銹鋼靶材S.S等……
多元合金靶材： 鈦鋁靶Ti-Al、鈦鋯靶Ti-Zr、鈦硅靶Ti-Si、鈦鎳靶Ti-Ni、鎳鉻靶Ni-Gr、鎳鋁靶Ni-Al、鎳釩靶Ni-V、鎳鐵靶Ni-Fe、鐵鈷靶Fe-Co、鋁硅靶Al-Si、鈦硅靶Ti-Si、鉻硅靶Cr-Si、鋅鋁靶Zn-Al、鈦鋅靶材Ti-Zn、鋁硅銅靶Al-Si-Cu等……
陶瓷濺射靶材：ITO靶、單晶硅靶、多晶硅靶、一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化鈦靶TiO2、氧化鋯靶ZrO2、二硼化鈦靶TiB2、氧化鎂靶MgO、碳化硼靶BC、氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC、三氧化二釔靶Y2O3、五氧化二釩靶V2O5、氧化鋅靶ZnO、硫化鋅靶ZnS、硫化鉬靶MoS、硫化鎢靶WS、氧化鋅鋁靶ZAO、氧化鋁靶Al2O3、鈦酸鍶靶SrTiO3、五氧化二鉭靶Ta2O5、五氧化二鈮靶Nb2O5、氧化鋅鎵靶ZGO、氧化鋅硼靶ZBO、砷化鎵靶GaAs，磷化鎵靶GaP，硒化鋅靶、錳酸鋰靶、鎳鈷酸鋰靶、鉭酸鋰靶，鈮酸鋰靶、等…
稀土金屬靶：鑭靶、鈰靶、鐠靶、釹靶、釤靶、銪靶、釓靶、鋱靶、鏑靶、鈥靶、鉺靶、銩靶、鐿靶、镥靶、釔靶等…
稀土氧化物靶：氧化鑭靶、氧化鈰靶、氧化鐠靶、氧化釤靶、氧化銪靶、氧化釹靶、氧化釓靶、氧化鋱靶、氧化鏑靶、氧化鈥靶、氧化鉺靶、氧化銩靶、氧化鐿靶、氧化镥靶
金屬膜阻器用Ni-Cr-Si/ Ni-Cr-Mn-Cu濺射靶材：
金屬膜阻器用靶材括阻系列（ZYG）、中阻系列（ZYZ）和低阻系列（ZYC）、超低阻系列（ZYCD）。
2．純光學(xué)鍍膜材料（99.99％——99.999％）
氧化物：一氧化硅、二氧化硅、一氧化鈦、二氧化鈦、三氧化二鈦、五氧化三鈦、二氧化鋯、二氧化鉿、二氧化鈰、二鈦酸鐠、三氧化鎢、五氧化二鉭、五氧化二鈮、三氧化二鈧、三氧化二鋁、三氧化二銦、氧化鐿、氧化鋅、氧化鎂、氧化釓、氧化釤、氧化釹、氧化鈣、氧化鐠、氧化鉍、氧化鉻、氧化鎳、氧化銅、氧化鐵、氧化釩等…
氟化物：氟化鎂、氟化鈣、氟化釹、氟化鑭、氟化鐿、氟化釔、氟化鉺、氟化釤、氟化鏑、氟化鈰、氟化鋇、氟化鍶、氟化鉀、氟化鈉等…
硫化物：硫化鋅、硫化鉬、硫化鈣、硫化銻、硫化鐵、硫化鈉等…
銥錸合金靶材
Ir-Re
99.9%
圓片靶， 矩形靶，圓柱靶，臺(tái)階靶，圖紙加工
銦錫合金靶材
In-Sn
99.99%
圓片靶， 矩形靶，圓柱靶，臺(tái)階靶，圖紙加工
鉬硅合金靶材
Mo-Si
99.5%
圓片靶， 矩形靶，圓柱靶，臺(tái)階靶，圖紙加工
鉬鈮合金靶材T18937853784(不是聯(lián)系方式)
Mo-Nb
99.95%
圓片靶， 矩形靶，圓柱靶，臺(tái)階靶，圖紙加工
鎳鋁合金靶材
Ni-Al
99.9%
圓片靶， 矩形靶，圓柱靶，臺(tái)階靶，圖紙加工
鎳鉻合金靶材
Ni-Cr
99.95%
圓片靶， 矩形靶，圓柱靶，臺(tái)階靶，圖紙加工
鎳鉻硅合金靶材
Ni-Cr-Si
99.95%
圓片靶， 矩形靶，圓柱靶，臺(tái)階靶，圖紙加工
鎳鐵合金靶材
Ni-Fe
99.9%
圓片靶， 矩形靶，圓柱靶，臺(tái)階靶，圖紙加工
鎳鈮鈦合金靶材
Ni-Nb-Ti
99.9%
圓片靶， 矩形靶，圓柱靶，臺(tái)階靶，圖紙加工
鎳鈦合金靶材
Ni-Ti
99.95%
圓片靶， 矩形靶，圓柱靶，臺(tái)階靶，圖紙加工
鎳釩合金靶材
Ni-V
99.9%
圓片靶， 矩形靶，圓柱靶，臺(tái)階靶，圖紙加工
釤鈷合金靶材
Sm-Co
99.9%
圓片靶， 矩形靶，圓柱靶，臺(tái)階靶，圖紙加工
銀銅合金靶材
Ag-Cu
99.99%
圓片靶， 矩形靶，圓柱靶，臺(tái)階靶，圖紙加工
銀錫合金靶材
Ag-Sn
99.99%
圓片靶， 矩形靶，圓柱靶，臺(tái)階靶，圖紙加工
鉭鋁合金靶材
Ta-Al
99.9%
圓片靶， 矩形靶，圓柱靶，臺(tái)階靶，圖紙加工
鋱鏑鐵合金靶材
Tb-Dy-Fe
圓片靶， 矩形靶，圓柱靶，臺(tái)階靶，圖紙加工
下一個(gè)內(nèi)容
物以稀為貴。釕、銠、鈀、鋨、銥、鉑6個(gè)元素在地殼中的含量都非常少。除了鉑在地殼中的含量為億分之五、鈀在地殼中的含量為億分之一外，釕、銠、鋨、銥4個(gè)元素在地殼中的含量都只有十億分之一。又由于它們多分散于各種礦石之中，很少形成大的聚集，所以價(jià)格昂貴。這6個(gè)元素在化學(xué)稱作鉑族元素，加已經(jīng)介紹過的銀和金，就是我們常說的貴金屬。
純Pd鈀靶材廠家：鈀靶、鈀粒、鈀片、鈀粉
純度：3N 、3N5、4N
規(guī)格：鈀靶（平面圓靶，方靶，旋轉(zhuǎn)靶，臺(tái)階靶均可加工，規(guī)格戶要求定做）
鈀粒（不規(guī)則顆粒1-5mm,10*10*1mm片狀，其他規(guī)格定做）
鈀片（10*10*1mm,根據(jù)戶要求定做）
鈀粉（根據(jù)戶要求定做）
純Ir銥：銥靶、銥粒、銥片、銥粉
純度：3N 、3N5、4N、4N5
規(guī)格：銥靶（平面圓靶，方靶，旋轉(zhuǎn)靶，臺(tái)階靶均可加工，規(guī)格戶要求定做） 銥粒（規(guī)格Φ2*5mm,Φ2*10mm，其他規(guī)格定做）
銥片（根據(jù)戶要求定做）
銥粉（根據(jù)戶要求定做）
純鉑：鉑靶、鉑粒、鉑絲、鉑極、鉑片、鉑粉
純度：3N 、3N5、4N、4N5、5N
規(guī)格：鉑靶（平面圓靶，方靶，旋轉(zhuǎn)靶，臺(tái)階靶均可加工，規(guī)格戶要求定做） 鉑粒（規(guī)格Φ2*5mm,Φ2*10mm，其他規(guī)格定做）
鉑絲（Φ0.2mm、Φ0.3mm、Φ0.5mm、Φ1mm其他規(guī)格定做）
鉑片（根據(jù)戶要求定做）
鉑粉（根據(jù)戶要求定做）
純Ru釕：釕靶、釕粒、釕塊、釕片、釕粉
純度：3N 、3N5、4N、4N5
規(guī)格：釕靶（平面圓靶，方靶，旋轉(zhuǎn)靶，臺(tái)階靶均可加工，規(guī)格戶要求定做） 釕塊（不規(guī)則塊狀，塊狀大可根據(jù)戶要求）
釕粉（根據(jù)戶要求定做）
純Rh銠：銠靶、銠粒、銠塊、銠粉
純度：3N 、3N5、4N
規(guī)格：銠靶（平面圓靶，方靶，旋轉(zhuǎn)靶，臺(tái)階靶均可加工，規(guī)格戶要求定做） 銠塊（不規(guī)則塊狀，塊狀大可根據(jù)戶要求）
銠粉（根據(jù)戶要求定做）
進(jìn)入20紀(jì)90年代以來，隨著技術(shù)和材料，特別是子行業(yè)的器件和材料的飛速展，濺射靶材的市場(chǎng)規(guī)模日益擴(kuò)大。!1990"年靶材市場(chǎng)銷售額為336-397億日元，年長(zhǎng)率達(dá)到 20%；!1991!年約為377-443億日元， 年長(zhǎng)率為10% 。!1995年僅日本的靶材市場(chǎng)就已達(dá)到500億日元［G］ 。據(jù)不wq統(tǒng)計(jì)，!1999年靶材市場(chǎng)的 年銷售額近!10億美元，其中日本的市場(chǎng)份額超過市場(chǎng)的一半，美國(guó)的市場(chǎng)份額約占的三分之一，中國(guó)大陸的年銷售額約E""300-500"萬美元，臺(tái)灣地區(qū)的年銷售額約2500""萬美元。由于子薄膜、光學(xué)薄膜、光薄膜、磁薄膜和超導(dǎo)薄膜等在技術(shù)和工業(yè)的大規(guī)模應(yīng)用，靶材已逐漸展成為一個(gè)專業(yè)化產(chǎn)業(yè)。隨著技術(shù)的不斷展，的靶材市場(chǎng)還將進(jìn)一步擴(kuò)大。
氧化鋯陶瓷
濺射靶材
黃金靶材
工業(yè)陶瓷
靶材廠家
靶材
氧化鋯陶瓷棒
機(jī)械陶瓷配件
子槍燈絲
【原創(chuàng)內(nèi)容】
用。靶材進(jìn)行預(yù)濺射時(shí)建議慢慢加大濺射功率，陶瓷類靶材的功率加大速率建議為1.5W時(shí)/平方厘米。金屬類靶材的預(yù)濺射速度可以比陶瓷靶材塊，一個(gè)合理的功率加大速率為物覆蓋面積加。在一定功率的況下，參與化合物生成的反應(yīng)氣體量加，化合物生成率加。如果反應(yīng)氣體量加過度，化合物覆蓋面積加，如果不能及時(shí)調(diào)整反應(yīng)氣體流量，用。靶材進(jìn)行預(yù)濺射時(shí)建議慢慢加大濺射功率，陶瓷類靶材的功率加大速率建議為1.5W時(shí)/平方厘米。金屬類靶材的預(yù)濺射速度可以比陶瓷靶材塊，一個(gè)合理的功率加大速率為氣體(氬氣或氧氣)必須清潔并干燥，濺鍍腔內(nèi)裝入基材后便需將空氣抽出，達(dá)到工藝所要求的真空度。暗區(qū)屏蔽罩，腔體壁及鄰近表面也需要保持潔凈。在清洗真空腔體時(shí)我們建議采屬鉬作為背靶材料。不銹鋼管(SST)–目前最常使用不銹鋼管作為旋轉(zhuǎn)靶材的背管，因?yàn)椴讳P鋼管有良好的強(qiáng)度和導(dǎo)熱而且非常經(jīng)濟(jì)二、背靶重復(fù)使用大部分背靶可以重復(fù)使用，尤用。靶材進(jìn)行預(yù)濺射時(shí)建議慢慢加大濺射功率，陶瓷類靶材的功率加大速率建議為1.5W時(shí)/平方厘米。金屬類靶材的預(yù)濺射速度可以比陶瓷靶材塊，一個(gè)合理的功率加大速率為提供的已使用過的背靶后，我們會(huì)首先進(jìn)行卸靶處理（如適用）并且對(duì)背靶進(jìn)行wq檢查，檢查的重點(diǎn)括背靶的平整度，完整及密封等。我們會(huì)通知用戶對(duì)背靶的檢查結(jié)果，如第二步與{dy}步類似用酒精清潔；第三步用去離子水清洗。在用去離子水清洗過后再將靶材放置在烘箱中以100攝氏度烘干30分鐘。氧化物及陶瓷靶材的清洗建潔用“無絨布”進(jìn)行
