低溫等離子＋uv光解廢氣凈化設(shè)備概述
低溫等離子+UV光電一體機(jī)分為紫外線光解和等離子分解兩個(gè)區(qū)，惡臭氣體先經(jīng)UV紫外線光解區(qū)再到等離子分解區(qū)，經(jīng)多級(jí)凈化后達(dá)標(biāo)排出。
UV紫外線光解區(qū)：利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體，改變惡臭氣體，如氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、四硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯、硫化物H2S、VOC類、苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結(jié)構(gòu)，使有機(jī)或無(wú)機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線下，降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物，如CO2、H2O等。再分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧。因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進(jìn)而產(chǎn)生臭氧。眾所周知，臭氧對(duì)有機(jī)物具有極強(qiáng)的氧化作用，對(duì)惡臭氣體及其它感激性異味有立竿見影的qc效果。有機(jī)惡嗅氣體通過(guò)本區(qū)后，凈化運(yùn)用高能UV紫外線光束及臭氧對(duì)惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng)，使惡臭氣體物質(zhì)降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，裂解惡臭氣體中xj的分子鍵，破壞xj的核酸，再通過(guò)臭氧氧化反應(yīng)。
等離子分解區(qū)：采用了獨(dú)特的吸附-分解-碳化工藝技術(shù)設(shè)計(jì)，無(wú)需再生處理原料，無(wú)需專人負(fù)責(zé)，不產(chǎn)生二次污染。采用脈沖高壓高頻等離子體電源和齒板放電裝置，使其產(chǎn)生高強(qiáng)度、高濃度、高電能的活性自由基，在毫秒級(jí)的時(shí)間內(nèi)，瞬間對(duì)經(jīng)過(guò)UV光解區(qū)進(jìn)入等離子分解區(qū)的氣體內(nèi)殘留的有害分子進(jìn)行氧化還原反應(yīng)，將廢氣中的污染物降解成二氧化碳和水及易處理的物質(zhì)。利用催化氧化劑的強(qiáng)氧化性和高吸附性，持續(xù)地對(duì)等離子體未處理盡的污染物和生成的物質(zhì)進(jìn)行催化氧化反應(yīng)，使有害廢氣經(jīng)多級(jí)凈化后終達(dá)標(biāo)排放。
光化學(xué)技術(shù)原理
光化學(xué)技術(shù)綜合利用了高強(qiáng)輻照?qǐng)鰧?duì)惡臭物質(zhì)的破壞作用和氧對(duì)惡臭物質(zhì)的氧化去除作用，來(lái)去除惡臭氣體中的硫化氫、氨、甲硫醇、芳香烴等VOC（揮發(fā)性有機(jī)物）。惡臭氣體分子在輻照射線的作用下，物質(zhì)分子的能態(tài)發(fā)生了改變，即分子的轉(zhuǎn)動(dòng)、振動(dòng)、電子能級(jí)發(fā)生變化，由低能態(tài)被激發(fā)至高能態(tài)，并利用了氧在強(qiáng)輻照下分解所產(chǎn)生的活潑的次生氧化劑來(lái)氧化這些有害物質(zhì)，輻照?qǐng)龊脱跻坏?，存在著一個(gè)協(xié)同作用，這種協(xié)同作用使該技術(shù)對(duì)惡臭去除的速率得到數(shù)量級(jí)的增加。
四種方案一次性投資成本相差不大，低溫等離子+光化學(xué)技術(shù)與生物法一次性投資成本大致相當(dāng)（略低），化學(xué)藥劑洗滌法偏低，催化焚燒法的投資成本高。
低溫等離子＋uv光解廢氣凈化設(shè)備技術(shù)特點(diǎn)與優(yōu)勢(shì)
設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小，安裝簡(jiǎn)單。
友好的人機(jī)界面、智能化的控制，操作和維護(hù)簡(jiǎn)便易行。
留有計(jì)算機(jī)接口，方便聯(lián)入中控室統(tǒng)一控制、操作。
可與設(shè)備聯(lián)動(dòng)，只需運(yùn)行設(shè)備，除異味裝置即可聯(lián)動(dòng)。
一次性投資，資金適中。
設(shè)備功耗低，運(yùn)行時(shí)只需電和少量的水；運(yùn)行費(fèi)用極低。
設(shè)備可以靈活組合，根據(jù)不同廢氣進(jìn)行不同的組合。
處理后的終產(chǎn)物為二氧化碳和水，無(wú)二次污染。
低溫等離子＋uv光解廢氣凈化設(shè)備適用行業(yè)及范圍
噴漆車間、油墨印刷、噴涂車間、化工、、橡膠、食品、印染、釀造、造紙、煉油廠、污水處理廠、垃圾轉(zhuǎn)運(yùn)站等產(chǎn)生的有毒有害惡臭廢氣體
