超高速納米研磨分散機(jī),高剪切超細(xì)研磨分散機(jī),超細(xì)乳化設(shè)備,進(jìn)口研磨分散機(jī),對(duì)于研磨分散機(jī)來(lái)說(shuō){zd0}的一個(gè)目的就是要達(dá)到乳化的效果,那么從設(shè)備角度來(lái)說(shuō)影響乳化效果的因素有哪些呢?
1、乳化頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)
2、乳化頭的剪切速率(越大,效果越好)
3、乳化頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細(xì)齒,超細(xì)齒,約細(xì)齒效果越好)
4、物料在分散墻體的停留時(shí)間,乳化分散時(shí)間(可以看作同等的電機(jī),流量越小,效果越好)。
5、循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設(shè)備的期限,就不能再好)
另外線速度是衡量設(shè)備效果的一個(gè)重要的指標(biāo)
線速度的計(jì)算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。
–剪切速率 (s-1) = v速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:
–轉(zhuǎn)子的線速率
–在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
CIK 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V=3.14 XD(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM/60
上海切可自主研發(fā)生產(chǎn)的超細(xì)研磨分散機(jī),具有高轉(zhuǎn)速、低能耗、低噪音、高壽命等優(yōu)勢(shì),經(jīng)過(guò)CIK全體研發(fā)生產(chǎn)部員工的不懈努力,終于解決了CIK高剪切研磨分散機(jī)的提速問(wèn)題。市場(chǎng)上一般使用的研磨分散機(jī)由于定轉(zhuǎn)子精度以及機(jī)械密封的原因,轉(zhuǎn)速{zg}只能達(dá)到2910轉(zhuǎn),而CIK{zx1}研發(fā)的立式分體式研磨分散機(jī)將轉(zhuǎn)速提高到9000轉(zhuǎn),從而更好的解決了市場(chǎng)的需求。
超高速納米研磨分散機(jī),主要用于微乳液及超細(xì)懸浮液的生產(chǎn)。由于工作腔體內(nèi)三組分散頭(定子+轉(zhuǎn)子)同時(shí)工作,乳液經(jīng)過(guò)高剪切后,液滴更細(xì)膩,粒徑分布更窄,因而生成的混合液穩(wěn)定性更好。三組分散頭均易于更換,適合不同的工藝應(yīng)用。該系列中不同的型號(hào)的機(jī)器都有相同的線速度和剪切率,非常易于擴(kuò)大生產(chǎn)。適宜的溫度,壓力與粘度參數(shù)與DISPERSING一樣。也符合CIP/SIP清潔標(biāo)準(zhǔn),適合食品及醫(yī)藥生產(chǎn)。
納米研磨分散機(jī)的特點(diǎn):具有非常高的剪切速度和剪切力,粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性;該設(shè)備可以適用于各種分散乳化工藝,也可用于生產(chǎn)包括對(duì)乳狀液、懸浮液和膠體的均質(zhì)混合;三級(jí)研磨分散機(jī)由定、轉(zhuǎn)子系統(tǒng)所產(chǎn)生的剪切力使得溶質(zhì)轉(zhuǎn)移速度增加,從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速。
型號(hào)
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標(biāo)準(zhǔn)流量
L/H
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輸出轉(zhuǎn)速
rpm
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標(biāo)準(zhǔn)線速度
m/s
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馬達(dá)功率
KW
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進(jìn)口尺寸
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出口尺寸
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NKD2000/4
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300-1,000
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9,000
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23
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2.2
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DN25
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DN15
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NKD2000/5
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3,000
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6,000
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23
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7.5
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DN40
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DN32
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NKD2000/10
|
8,000
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4,200
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23
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15
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DN50
|
DN50
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NKD2000/20
|
20,000
|
3,000
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23
|
37
|
DN80
|
DN65
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NKD2000/30
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40,000
|
1,500
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23
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55
|
DN150
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DN125
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NKD2000/40
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70,000
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1,500
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23
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90
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DN150
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DN125
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