上海伯東代理考夫曼離子源離子槍簡介

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伯東企業(yè)（上海）有限公司

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伯東企業(yè)（上海）有限公司

伯東公司成立于1953 年，全球范圍內(nèi)有一千七百名員工。伯東企業(yè)(上海)有限公司(www.hakuto-vacuum.cn)主要從事半導(dǎo)體設(shè)備、電子零部件加工、銷售及相關(guān)服務(wù)工作，集團(tuán)年營業(yè)額約為100億人民幣。伯東公司在國內(nèi)主要城市：北京、蘇州、廣州、深圳、成都及廈門設(shè)有營業(yè)據(jù)點。
上海伯東真空產(chǎn)品事業(yè)部秉承為廣大中國客戶提供世界{yl}的真空產(chǎn)品、推動中國真空工藝發(fā)展、承擔(dān)企業(yè)社會責(zé)任為經(jīng)營理念，已累計為超過10,000家企業(yè)提供真空服務(wù)，覆蓋工業(yè)、半導(dǎo)體、鍍膜、科研和分析行業(yè)。
上海伯東代理品牌包含：德國Pfeiffer 全系列真空產(chǎn)品、美國 KRI 離子源、美國Brooks Polycold 制冷機(jī)，美國HVA 真空閥門，美國 inTEST(Temptronic)高速溫度循環(huán)測試機(jī)，離子蝕刻機(jī)，真空鍍膜系統(tǒng)及配套真空零配件等。
上海伯東作為國際知名真空品牌指定授權(quán)代理商，全權(quán)負(fù)責(zé)在中國地區(qū)的銷售和維修服務(wù)，100% 使用原廠進(jìn)口零部件以及國外受訓(xùn)維修工程師；擁有wq的拆解，維修，校正能力并提供24小時在線服務(wù)。

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伯東公司是美國考夫曼公司 Kuafman & Robinson,Inc（KRI) 中國總代理. KRI 考夫曼公司是由發(fā)明人 Dr.Kaufman 考夫曼博士于 1978年在美國創(chuàng)立. 歷經(jīng) 30 年改良及發(fā)展已取得多項專利, 受到各領(lǐng)域的肯定.

KRi 系列產(chǎn)品融合一系列等離子技術(shù), 主要分為以下幾類：
無柵式端部霍爾 eh
eH 系列可輸出高離子流和低能源束。離子流達(dá)到高速運(yùn)行需求的同時低能源束能夠減少對設(shè)備外表面與內(nèi)表面的傷害。
有柵極射頻感應(yīng)耦合等離子體 RFICP
RFICP 系列可以在無燈絲的情況下提供高密度離子流.從離子流中提取的離子束能夠被準(zhǔn)確的控制以便提供設(shè)定的形狀,電流密度以及離子能。
有柵極 KDC
KDC 系列是根據(jù)典型的考夫曼加強(qiáng)設(shè)計的。傳統(tǒng)的工藝使其能夠輸出高質(zhì)、穩(wěn)定的離子束。
電源與控制器
我們的電源與控制器操作不同種類的離子、等離子以及電子源。這些產(chǎn)品能夠為等離子流程中的動荷作用輸出平穩(wěn)、連續(xù)的電源。
電子源與中和器
這些電子源低能量、高電流源。它們一般應(yīng)用于中和劑或陰極材料，以便控制與等離子源的產(chǎn)量。
PTIBEAMTM 離子透鏡
我們的離子束源采用耐融金屬或石墨的多孔徑網(wǎng)格。這些網(wǎng)格或是平的，或是中凹的，它們與多孔模式一同控制離子軌跡。離子軌跡的聚集產(chǎn)生了離子束，離子電流的分布塑造了該離子束的形狀特征。
離子源

EH1010F , EH1020F …系列廣泛用于鍍膜之前處理 (ISSP) 及離子輔助鍍膜 (IBAD)且有助于提高光學(xué)成膜之沉淀速率, 附著度, 可靠度, 增加折射率, 穿透率等. 整體設(shè)計低耗材, 安裝簡易, 維護(hù)簡單廣泛應(yīng)用在生產(chǎn)企業(yè)和科研單位

EH1010F, EH1020F, EH3050F, EH5050F…系列, 目前被廣泛應(yīng)用于 AR, IR, 分光鏡, 光學(xué)蒸鍍鍍膜制程, 多層膜光學(xué)鍍膜制程, 低溫度膜制, PVD 制程, 材料分析等等…
KRI 考夫曼離子源
EH1020F 蒸鍍制程設(shè)備應(yīng)用

EH1020F controller

HOLLOW CATHODE 系列 EH200HC, EH400HC, EH1000HC, EH2000HC … 系列不僅廣泛應(yīng)用于生產(chǎn)單位, 且因離子抨擊能量強(qiáng), 蝕刻效率快, 可因應(yīng)多種基材特性, 單次使用長久, 耗材成本極低, 操作簡易, 安裝簡易, 所以目前廣泛應(yīng)用于許多蝕刻制程及基板前處理制程.

EH400HC Etching application ( ion source body )

KRI ion source controller
KRI 考夫曼離子源
EH400HC Etching application ( ion source igniting )

KRI 考夫曼離子源
FeSeTe etching application ( 110V/1.5A etching rate >20 A/Sec )

KRI 考夫曼離子源
PCCO Etching application (110V/1.5A etching rate >17A/Sec )

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上海伯東: 羅先生                               臺灣伯東: 王女士
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