KRI 霍爾 eH 200
上海伯東代理美國原裝進(jìn)口 KRI 霍爾 eH200 是霍爾型 eH 系列中尺寸最小, 低成本設(shè)計離子源. 霍爾 eH200 適用于小型真空腔內(nèi), 例如研發(fā)分析, 薄膜沉積和離子清洗. 霍爾 eH200 操作簡單是理想的生產(chǎn)工具.
KRI 霍爾 eH 200 技術(shù)參數(shù):
型號
|
eH 200
|
供電
|
DC magnetic confinement
|
- 電壓
|
40-300V VDC
|
- 離子源直徑
|
~ 2 cm
|
- 陽極結(jié)構(gòu)
|
模塊化
|
電源控制
|
eHx-3005A
|
配置
|
-
|
- 陰極中和器
|
Filament or Hollow Cathode
|
- 離子束發(fā)散角度
|
> 45° (hwhm)
|
- 陽極
|
標(biāo)準(zhǔn)或 Grooved
|
- 水冷
|
無
|
- 底座
|
移動或快接法蘭
|
- 高度
|
2.0'
|
- 直徑
|
2.5'
|
-加工材料
|
金屬
電介質(zhì)
半導(dǎo)體
|
-工藝氣體
|
Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors
|
- 安裝距離
|
6-24”
|
- 自動控制
|
控制4種氣體
|
* 可選: 可調(diào)角度的支架; Filamentless; Sidewinder
KRI 霍爾 eH 200 應(yīng)用領(lǐng)域:
濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC
輔助鍍膜(光學(xué)鍍膜)IBAD
表面改性, SM
直接沉積 DD