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壓力容器HIC氫脆實(shí)驗(yàn)
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 標(biāo)準(zhǔn):  NACE TM 0177-2005        NACE RM0175-2000      ASTM G39-99
            GB/T4157-2006   ISO15156-2001

測試氫脆的方法有好幾種,常用的有往復(fù)彎曲試驗(yàn)和延遲破壞試驗(yàn)。
(1)往復(fù)彎曲試驗(yàn)往復(fù)彎曲試驗(yàn)對低脆性材料比較靈敏,可以用來對不同基體材料在經(jīng)過相同的電鍍工藝處理后的氫脆程度進(jìn)行比較,也可以對相同的基體材料上的不同電鍍工藝的氫脆程度進(jìn)行比較。這種試驗(yàn)的方法是取一個(gè)待測試片,其尺寸規(guī)格為:150mm×l3mm×l.5mm,表面粗糙度Ra=1.6。對試片進(jìn)行熱處理使之達(dá)到規(guī)定的硬度,然后用往復(fù)彎曲機(jī)讓試片在一定直徑的軸上以一定的速度進(jìn)行緩慢的彎曲試驗(yàn),直至試片斷裂。彎曲方式有90。往復(fù)彎曲和l80。單面彎曲兩種,以前一種方式應(yīng)用較多,彎曲的速度是06.s。如果是單面彎曲則所取的速度則為013。/s。評價(jià)的方法是將彎曲試驗(yàn)至斷裂時(shí)的次數(shù)乘以角度,以獲得彎曲角度的總和,其角度總值越大,氫脆越小。
測試時(shí)要注意以下幾點(diǎn)。
①試片在進(jìn)行熱處理后如果有變形,應(yīng)靜壓校平,不可以敲打校正,否則會(huì)使試片的內(nèi)應(yīng)力增加,影響試驗(yàn)結(jié)果。
②為了防止應(yīng)力影響,電鍍前應(yīng)進(jìn)行去應(yīng)力,在電鍍后則要進(jìn)行除氫處理,這時(shí)檢測的是殘余氫脆的影響。
③彎曲試驗(yàn)時(shí)所用的軸的直徑的選用很重要,因?yàn)樵u價(jià)這種試驗(yàn)結(jié)果的量化指標(biāo)與軸徑有關(guān),對于小的軸徑,則彎曲至斷裂的次數(shù)就會(huì)少一些,具體選用什么軸徑要通過對基體材料的空白試驗(yàn)來確定,并且在提供數(shù)據(jù)時(shí)要指明所用的軸徑,否則參數(shù)沒有可比性。
(2)延遲破壞試驗(yàn)延遲破壞試驗(yàn)是一種靈敏度較高的試驗(yàn)方法,適合用于高強(qiáng)度鋼制品的氫脆檢測。這種氫脆測試也是在試驗(yàn)
機(jī)上進(jìn)行的,所用的試驗(yàn)機(jī)為持久強(qiáng)度試驗(yàn)機(jī)或蠕變試驗(yàn)機(jī),檢測試樣在這種試驗(yàn)機(jī)上受到小于破壞程度的應(yīng)力的作用,觀測其直到斷裂時(shí)的時(shí)間。如果到規(guī)定的時(shí)間尚沒有發(fā)生斷裂,即為合格。這種試驗(yàn)需要采用按一定要求制作的標(biāo)準(zhǔn)的測試驗(yàn)棒。并且每次要使用三支同樣條件的試樣平行做試驗(yàn),以使結(jié)果更為可信。
這種試樣的形狀和尺寸要求如圖2-1,氫脆試樣棒示意其中關(guān)鍵位就是處于試樣中間軸徑最小的地方(直徑45mm005mm)。如果有較為嚴(yán)重的氫脆,斷裂就從此處發(fā)生。 試樣應(yīng)先退火后再經(jīng)車工加工為接近規(guī)定尺寸的初件,經(jīng)熱處理達(dá)到規(guī)定的抗拉強(qiáng)度后,再加工到j(luò)q尺寸。試樣在電鍍前要xc應(yīng)力,其工藝與電鍍件的真實(shí)電鍍過程相同。鍍層的厚度要求在12μm左右。試驗(yàn)所用的負(fù)荷是進(jìn)行空白測試時(shí)的75%。如果經(jīng)過200h仍不斷裂,即為合格。

鄭重聲明:產(chǎn)品 【壓力容器HIC氫脆實(shí)驗(yàn)】由 浙江容大川檢測技術(shù)服務(wù)有限公司 發(fā)布,版權(quán)歸原作者及其所在單位,其原創(chuàng)性以及文中陳述文字和內(nèi)容未經(jīng)(企業(yè)庫www.nnfsds.com)證實(shí),請讀者僅作參考,并請自行核實(shí)相關(guān)內(nèi)容。若本文有侵犯到您的版權(quán), 請你提供相關(guān)證明及申請并與我們聯(lián)系(qiyeku # qq.com)或【在線投訴】,我們審核后將會(huì)盡快處理。
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