Q150T的機殼是整體成型的結(jié)構(gòu)堅固耐用，配有氣冷的70L/S的渦輪分子泵，自動進氣控制保證了濺射期間{zj0}的真空水平，真空腔室直徑為165mm(6.5英寸)并帶有防爆裝置。Q150T具有“真空閉鎖”功能，可在設(shè)備不工作時維持腔室的真空度，從而保證高真空的性能。
根據(jù)不同的應(yīng)用方向，Q150T細分為三個型號：
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Q150TS：高分辨率濺射鍍膜儀，可濺射易氧化和不易氧化金屬，可選各種濺射靶材，包括場發(fā)射電鏡常用的銥和鉻。
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Q150TE：高真空鍍碳儀，可制作高穩(wěn)定的碳膜和表面覆形膜，是TEM應(yīng)用最理想的選擇。
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Q150TES：集合了離子濺射和熱蒸鍍兩種真空沉積鍍膜方式，鍍膜頭可在幾秒內(nèi)快速更換，只能邏輯系統(tǒng)自動識別所裝的鍍膜頭類型，并顯示相應(yīng)的操作模式。
注：上述各型號都可配備如下可選的附件：金屬蒸鍍、碳絲蒸鍍、膜厚測量等
觸摸屏控制：
Q150T操作十分簡單，直觀的觸摸屏，即使最不熟練的操作者也可以自由操作，同時可方便的鍵入和存儲數(shù)據(jù)。為了方便使用，設(shè)備中已經(jīng)預(yù)存一些了典型的濺射和蒸發(fā)鍍膜參數(shù)資料。
鍍膜插入頭選項：
具有一系列可互換、即插即用的鍍膜插入頭
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濺射插入頭適用于易氧化和不易氧化金屬材料。直徑57mmX0.3mm厚鉻靶為標(biāo)準(zhǔn)靶材。
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可用另外的濺射插入頭來快速更換鍍膜材料（僅為TS和TES型號）
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適用于3.05mm碳棒蒸發(fā)插入頭
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適用于6.15mm碳棒蒸發(fā)頭，建議使用3.05mm直徑的碳棒，它們更容易控制、更經(jīng)濟。
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碳絲蒸發(fā)插入頭
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金屬蒸發(fā)和光闌潔凈頭，包括向上蒸發(fā)或向下蒸發(fā)（僅為TE和TES型號）
樣品臺選項
Q150具有各種易更換的樣品臺，drop-in 落入式設(shè)計具高度可調(diào)（除旋轉(zhuǎn)行星臺）。
·標(biāo)準(zhǔn)配置為旋轉(zhuǎn)臺, 直徑為50mm
·可預(yù)設(shè)傾斜角度的旋轉(zhuǎn)臺（可選）
·可變角度旋轉(zhuǎn)行星臺（可選）
·可用于4〞晶圓的平面旋轉(zhuǎn)臺（可選）
·顯微鏡載玻片樣品臺（可選）
其它選項
·用于高樣品的加高腔室
·膜厚監(jiān)測器（FTM）
·用于測量低和高真空的全范圍真空計（皮拉尼真空計）
Q150T全自動鍍膜系統(tǒng)技術(shù)指示：
工作腔室：150mm（內(nèi)徑）*127mm（高）硼硅酸鹽玻璃腔室，并帶整體安全防護罩
觸摸屏用戶界面：帶有觸摸按鈕的全圖像界面，包含多達十個鍍膜程序，可提醒何時需要維護。
樣品臺：轉(zhuǎn)速為8-20rpm的旋轉(zhuǎn)臺
真空系統(tǒng)：
渦輪子分子泵：帶有內(nèi)部空氣卻的渦輪分子泵，抽速為70L/s
旋轉(zhuǎn)機械泵：抽速為50L/m的兩級旋轉(zhuǎn)機械泵，帶有油污過濾器
真空測量：皮拉尼真空計作為標(biāo)配，可選全量程真空計（10428）
極限真空度：10-5mbar兩級
濺射工作真空范圍：5*10-3到5*10-1mbar
工藝參數(shù)：
濺射：0-150mA?？深A(yù)設(shè)膜厚（需FTM選項）或使用內(nèi)置定時器。
碳蒸發(fā)：穩(wěn)定的無紋波直流電源控制的脈沖蒸發(fā)，確保源自碳棒或碳絲的可重復(fù)蒸碳。
電流脈沖：1-90安培
金屬蒸發(fā)和光闌清潔頭：用于源自鎢絲籃或舟的金屬熱蒸發(fā)?？膳鋫湟粋€標(biāo)準(zhǔn)鉬舟用于清潔SEM或TEM光闌。
金屬蒸發(fā)頭被安裝用于向下蒸發(fā)，但向上蒸發(fā)也能通過配裝兩個延長電極（可提供）而獲得。
Services and other information：
氣體：濺射工作氣體氬氣，99.999%（TS和TES版本）；氮氣，放氣破真空氣體（可選）
電源需求：90-250V~50/60Hz 1400VA 包括旋轉(zhuǎn)機械泵；110/240V可選擇電壓
尺寸：儀器機箱585mm寬*470mm*410mm高(總高650mm)
儀器總重量：33.4KG
濺射靶材和碳耗材供應(yīng)：Q150S和Q150TES標(biāo)配鉻靶，但可選用的其它靶材范圍很寬，包括那些廣泛用于SEM制樣的靶材，如：Au金靶，Au/pd金鈀，Pt鉑靶，和Iridium銥靶。對非SEM應(yīng)用，可選用的靶材包括：AI鋁，Ta鉭，ITO氧化銦錫，F(xiàn)e鐵，W鎢，Ti鈦，等等：碳制品包括高純度碳棒和碳絲纖維。
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