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日本進(jìn)口鉬電子離子源柵網(wǎng)

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離子源柵網(wǎng)直接影響膜層均勻性和致密性的重要易耗性配件。

日本進(jìn)口離子源柵網(wǎng)適用于考夫曼和射頻等多種機(jī)型的離子源，可直接替換同類品牌產(chǎn)品，性能優(yōu)良，價格低廉。

離子?xùn)啪W(wǎng)系統(tǒng)中的柵網(wǎng)一般為三柵式結(jié)構(gòu)，分別包括屏柵、加速柵和減速柵，其中屏柵相距等離子體近，減速柵相距等離子體遠(yuǎn)，加速柵位于屏柵與減速柵之間，屏柵的電勢高與等離子體內(nèi)部的電勢相接近，加速柵的電勢為負(fù)值，減速柵的電勢為零。離子束流依次經(jīng)過三片柵網(wǎng)終獲得一定空間濃度分布的離子束。三柵式結(jié)構(gòu)的柵網(wǎng)對于裝調(diào)精度要求很高，各柵網(wǎng)之間的距離、各柵網(wǎng)上孔洞的相對偏轉(zhuǎn)角度等都會對離子?xùn)啪W(wǎng)系統(tǒng)的工作穩(wěn)定性和對離子束流的控制能力產(chǎn)生較大影響。

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