一鍵式氬氣純化設(shè)備全自動(dòng)氬氣純化系統(tǒng)氣體公司專用氬氣純化機(jī)氮?dú)饧兓瘷C(jī)是蘇州晟宇氣體全力打造的高純氣體純化系列之一，以全新的工藝及外觀，高質(zhì)量的氣體純度體現(xiàn)了精湛的技術(shù)含量，相對(duì)低廉的價(jià)位展示了微利銷售的經(jīng)營(yíng)理念，服務(wù)于廣大用戶

一鍵式氬氣純化設(shè)備全自動(dòng)氬氣純化系統(tǒng)高純氬氣主要用途：用于焊接、不銹鋼制造、冶煉，還用于半導(dǎo)體制造工藝中的化學(xué)氣相淀積、晶體生長(zhǎng)、熱氧化、外延、擴(kuò)散、多晶硅、鎢化、離子注入、載流、燒結(jié)等氬氣作為制作單晶及多晶硅的保護(hù)氣，為了提高硅晶體的質(zhì)量，如何選用較高純度的氬氣，是制作硅晶體的一個(gè)議題。通過本裝置對(duì)氬氣的使用，氬氣的純度其中氧含量小于1ppm時(shí)，水分也小于1ppm時(shí)，制作出的單晶硅其氧碳含量就小于0.5ppm，這樣就提高了單晶的使用壽命并能達(dá)到要求，贏得客戶的滿意和市場(chǎng)的需求。由于一般液氬汽化后未經(jīng)過純化處理，它的氧含量一般在2ppm~5ppm。有時(shí)氣體供應(yīng)商提供的氬氣超過了此范圍，但使用氬氣的客戶確不知道其質(zhì)量，所以往往給生產(chǎn)產(chǎn)品質(zhì)量造成影響。有了氬氣純化裝置后不論氬原料氣的質(zhì)量如何，只要經(jīng)過純化裝置的處理后，進(jìn)入拉晶爐的氬氣，純度始終是恒定的。一般 O2＜0.2ppm,水分＜1ppm，這樣穩(wěn)定的氬氣對(duì)生產(chǎn)晶體質(zhì)量是有保證的。 氬氣純化裝置是針對(duì)需要使用超高純度氬氣的客戶而設(shè)計(jì)的。廣泛應(yīng)用于在金屬保護(hù)行業(yè)、電子、電光源、科研、氣體、分析、醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域以及光譜儀、氣相色譜儀、科學(xué)儀器等等已知或未知的寬廣領(lǐng)域

一鍵式氬氣純化設(shè)備全自動(dòng)氬氣純化系統(tǒng)裝置特點(diǎn)： 

1. 催化劑采用了{(lán)zxj}環(huán)保的催化材料。具有吸附深度高，吸收雜質(zhì)氣量大的特點(diǎn)，經(jīng)催化吸附干燥過濾后使其最終純度達(dá)99.9999%以上。100級(jí)的氣體出口過濾器使其最終純氣顆粒小于0.1μ，確保氣體滿足高純氣要求，原位再生功能保證了氣體的品質(zhì)如一，達(dá)到了環(huán)保節(jié)能的最終目的

2. 本裝置所有閥門，容器，管路全系不銹鋼制作，均采用國(guó)內(nèi)外專業(yè)制造企業(yè)的名優(yōu)產(chǎn)品，直接保證了設(shè)備工作過程中的高真空無滲透及無故障運(yùn)行安全可靠性。

3. 精致的控制儀表，電路電器選自gd跨國(guó)公司，如西門子，施耐德等。

4. 設(shè)備所有連接接頭均選自zmqy先進(jìn)的VCR接頭,杜絕滲漏，安全快捷。

5. 人性化的外觀設(shè)計(jì),使設(shè)備外形精巧更美觀，操作更方便

6. 進(jìn)出口微氧分析儀在線監(jiān)測(cè)，直觀顯示原料氣體氧含量及純化后的氧氣含量。

7. 純氣最終過濾系統(tǒng)一用一備，更具人性化，徹底解決無故障運(yùn)行顧慮。

8. 加氫還原系統(tǒng)采用質(zhì)量流量計(jì)控制，真正做到定時(shí)定量全自動(dòng)運(yùn)行。

9. 一鍵式啟動(dòng)設(shè)備，工作狀態(tài)實(shí)時(shí)顯示，操作簡(jiǎn)單、安全、明了。

10. 嚴(yán)格的質(zhì)量控制，在制作過程中，邀請(qǐng)需方作全過程跟蹤督察。

一 、一鍵式氬氣純化設(shè)備全自動(dòng)氬氣純化系統(tǒng)設(shè)備工作原理 

設(shè)備工作設(shè)有兩組工作組，填裝的凈化材料屬于可再生重復(fù)利用材料。原料液氬經(jīng)汽化器汽化后由設(shè)備工作進(jìn)口進(jìn)入設(shè)備一組工作組，經(jīng)脫氧劑、分子篩及精密{gx}過濾器后送出至工作點(diǎn)使用。一組工作組負(fù)荷飽和后，切換到另一組工作組工作，保證為使用點(diǎn)連續(xù)的提供高純氬氣。同時(shí)一組工作組開始再生加熱加氫反吹洗（本系統(tǒng)加氫是為了還原脫氧劑，加氫結(jié)束后設(shè)備自動(dòng)吹洗并直接放空），為等待下一次切換使用做好準(zhǔn)備。裝置工作為常溫工作，脫氧程度深、碳水含量低，均可達(dá)到并高于GB高純氬氣標(biāo)準(zhǔn)。

二、一鍵式氬氣純化設(shè)備全自動(dòng)氬氣純化系統(tǒng)主要技術(shù)條件 

1、 處lq量 ≥2-320Nm3/h 

2、工作壓力 ＜0.8Mpa 

3、原料氬氣純度 ≥99.99% 

4、純化后 O2 ≤0.2ppm CO+CO2＜0.3ppm CH4＜0.2 ppm H2O≤1ppm 

一鍵式氬氣純化設(shè)備全自動(dòng)氬氣純化系統(tǒng)技術(shù)保障措施；

      1 組合式純化工藝，分級(jí)處理。

      2 凈化器采用特殊結(jié)構(gòu)和裝料方法，流速設(shè)計(jì)合理，氣流分布均勻。

      3 凈化爐采用特殊設(shè)計(jì)的加熱構(gòu)造，加熱均勻、穩(wěn)定。

      4 采用優(yōu)質(zhì)管件，閥門，避免管道和閥門影響氣體質(zhì)量。

      5 采用優(yōu)質(zhì)的電器元件和控制儀表，保證溫度穩(wěn)定，減少溫度和影響。

      6 凈化器的活化程序，嚴(yán)格按照活化程序執(zhí)行，根據(jù)現(xiàn)場(chǎng)實(shí)際情況適當(dāng)調(diào)整。

      7 對(duì)用戶的操作員進(jìn)行設(shè)備操作培訓(xùn)，了解設(shè)備工作原理，掌握設(shè)備操作方法，熟悉設(shè)備的開車、停車、停電、停水處理方法。

      8 對(duì)用戶設(shè)備建立檔案，及時(shí)提醒用戶對(duì)設(shè)備進(jìn)行例行檢查和維護(hù)。是設(shè)備處在{zj0}工作狀態(tài)。

本裝置可與區(qū)熔硅單晶爐配套使用，也可用于激光器、濺射、真空濺射鍍膜機(jī)。半導(dǎo)體生產(chǎn)、光譜儀，氣相色譜儀、特殊燈泡、稀有金屬加工等需要用高純氬氣的生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域。

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高溫吸氣劑就是一些金屬合金。它的表面會(huì)和一些雜質(zhì)如氧，CH4等反應(yīng)。而且在高溫下（300-700度）這些雜質(zhì)會(huì)從表面擴(kuò)散到材料內(nèi)部從而保持表面和新的雜質(zhì)的反應(yīng)能力。這種技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)是可以去甲烷和氮（用于氮?dú)鈺r(shí)除外）。一般用來純化稀有氣體（氦氖氬氪氙）的比較多。也有用來純化氮和氫的。但是用的材料不同。
     晟宇氬氣純化耗材選用2 q- A  S' N; o7 M/ c% J高溫金屬合金吸氣劑，它的表面會(huì)和一些雜質(zhì)如氧，CH4等反應(yīng)。而且在高溫下（300-700度）這些雜質(zhì)會(huì)從表面擴(kuò)散到材料內(nèi)部從而保持表面和新的雜質(zhì)的反應(yīng)能力，采用新型工藝解決不可再生的困惑。延長(zhǎng)了設(shè)備耗材的使用年限，做到節(jié)能增收的目的