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控制設(shè)計是一種層級式設(shè)計,包括:基本控制層(BPCL),其中含應(yīng)急控制;先進控制或基于模型的控制層,以及優(yōu)化層。
基本控制層應(yīng)可wq獨立于更gd控制層發(fā)揮功能。
操作優(yōu)化的應(yīng)用日漸增加。特別是離線優(yōu)化廣泛應(yīng)用于間歇操作的生產(chǎn)進度安排,以及在連續(xù)操作場合用于確定靜態(tài)的優(yōu)化操作條件。
連續(xù)過程的優(yōu)化以機理模型為基礎(chǔ)?;诜蔷€性規(guī)劃技術(shù),連續(xù)過程的閉環(huán)靜態(tài)優(yōu)化應(yīng)用日益增多,但是其潛勢尚未充分發(fā)揮。動態(tài)優(yōu)化也已開始用于瞬態(tài)操作的優(yōu)化。
閉環(huán)靜態(tài)操作優(yōu)化的效益巨大,其量級為操作和能力成本的若干個百分點?;镜囊笫牵锌墒惯^程突破限制的約束控制器以及穩(wěn)健且經(jīng)驗證的過程模型。
閉環(huán)及開環(huán)過程優(yōu)化需嚴格遵循項目方法才能夠成功。以一種選定的方法開展過多的項目并非明智之舉,不應(yīng)效法。